真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。

真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。

众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。

真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属材料)，属于物***相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。在所有被镀材料中，以塑料为常见，其次，为纸张镀膜。

有涂层公司针对此问题研发了真空PVD镀膜涂层前处理的新技术，结合其它表面技术和真空PVD镀膜涂层复合作用，在改善液体金属粘模和热龟裂方面取得了一定的成绩。例如HCVAC研发了一款设备可以在同时完成压铸模具的软氮化 真空PVD镀膜涂层，有效的解决了传统涂层和氮化基体之间结合力差的问题，进一步提高了压铸模具的使用寿命。还有大多数公司则采用厚涂层的概念通过沉积足够厚度的涂层来提高模具的使用寿命。我在这里解析下压铸模具涂层的处理工艺。