真空电镀是真空镀膜工艺的一项新发展。真空电镀当高温蒸发源通电加热后，真空电镀促使待镀材料—蒸发料熔化蒸发。真空电镀蒸发料粒子获得一定动能，真空电镀则沿着视线方向徐徐上升，后真空电镀附着于工件外表上堆积成膜。真空电镀用这种工艺形成的镀层，真空电镀与零件外表既无牢固的化学结合。

真空电镀的简单作用过程：真空电镀接通蒸发源交流电源，真空电镀蒸发料粒子熔化蒸发，真空电镀进入辉光放电区并被电离。

PVD真空电镀pvd真空电镀加工

PVD真空电镀是一种真空沉积工艺，近年来越来越多地被使用，不再被视为实验室工艺。它已经扩大规模，以合理的成本处理大型复杂零件几何形状。

许多公司已经意识到将产品PVD真空电镀的好处。根据基材和应用，可以从室温沉积到高达500摄氏度。

PVD真空电镀能为产品提供更均匀的沉积物，在某些情况下提高了六倍的附着力，更多的材料选择以及不需要处理的***化学物质。由于PVD更环保且化学处理成本极低，像不锈钢首饰电镀、五金电镀、钟表电镀等都使用PVD进行镀膜加工。

电镀是工业已经使用多年的过程，在当今快节奏的商业环境中，真空电镀厂家需要跟上由于技术改进而不断发展的步伐，必须时刻关注着电镀市场的动态走向。

电镀的原理是利用了导电原理，在电解质溶液中金属离子在电场力的作用下向电极移动，在电极上发生了还原反应，金属离子被还原为金属单质在电极上析出，这一过程是一个化学反应过程，从微观上讲，电镀层在基体上排列整齐，附着力好，大大提高了金属材质的性能。

其次，电镀工艺操作温度低，镀层能很好的吸附在基体上，同时对不平整的基体能均匀覆盖，并且可以通过控制电流和时间实现镀层厚度的控制，目前可以实现大规模工业化生产。

总之，在基体表面电镀的主要目的就是提高材料的抗腐蚀性，延长使用寿命。但是，铝合金电镀制程中也存在着一些问题，需要进一步的优化。

随着科技的进步，一些电子工业及民用包装产业的的飞速发展，真空电镀工艺也将会飞速发展起来。真空电镀工艺主要是通过加热器把膜材蒸发、蒸发的膜材原子或分子迁移吸附到基体表面的成膜工艺，因此根据膜材的种类不同大体可分为金属膜的真空电镀、合金膜的真空电镀及化合物的真空电镀这三大类。真空电镀(PVD)是一种将塑料表面类金属化的加工方式。塑料表面上的类金属具有金属导电热传的特性，但却不具有金属的刚性，同时此加工方式并不会改变塑料原有的特性，所以在应用的领域上相当的广泛。