2.2.7热阴频溅射（三极型溅射）hotcathodehighfrequencysputtering：借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电，气体放电产生的离子，在靶表面负电位的作用下加速而轰击靶的溅射。

2.2.8离子束溅射ionbeamsputtering：利用特殊的离子源获得的离子束使靶的溅射。

2.2.9辉光放电清洗glowdischargecleaning：利用辉光放电原理，使基片以及膜层表面经受气体放电轰击的清洗过程。

2.3物***相沉积；PVDphysicalvapordeition：在真空状态下，镀膜材料经蒸发或溅射等物理方法气化，沉积到基片上的一种制取膜层的方法。

PVD镀膜五金镀膜价格

真空镀膜表面处理工艺后铝型材的特征

磨砂面料型材：磨砂面铝型材避免了光亮的铝合金型材在建筑装饰中存在环境、条件下会形成光的干扰的缺点，它的表面如锦缎一样细腻柔和，很受市场的青睐，但现有的磨砂材须克服表面砂粒不均匀，并能看到模纹的不足。

PVD镀膜技术的原理?

?PVD镀膜（离子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

真空电镀原理

电镀厂需要一个向电镀槽供电的低压大电流电源以及由电镀液、待镀零件(阴极)和阳极构成的电解装置。其中电镀液成分视镀层不同而不同，但均含有提供金属离子的主盐，能络合主盐中金属离子形成络合物的络合剂，用于稳定溶液酸碱度的缓冲剂，阳极活化剂和特殊添加物(如光亮剂、晶粒细化剂、整平剂、润湿剂、应力消除剂和抑雾剂等)。电镀过程是镀液中的金属离子在外电场的作用下，经电极反应还原成金属原子，并在阴极上进行金属沉积的过程。因此，这是一个包括液相传质、电化学反应和电结晶等步骤的金属电沉积过程。

PVD镀膜技术在锁具行业基材上做表面改性装饰与耐用效果。水电镀无法做到的，真空技术几乎都可以实现各种颜色效果，环保工艺。而且锁具加工真空镀膜技术加工在整体显得大气，让人类生活多姿多彩。

真空PVD镀膜技术在手机外壳/中框及配件

手机外壳与及中框、摄像头保护圈，槽，音量按键，电源开关键等装饰件在不锈钢基材上采用真空PVD镀膜技术，加强使用耐磨硬度和颜色多种选择。