真空镀膜主要利用辉光放电(glowdischarge)将气(Ar)离子撞击靶材du(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的气离子化,造成靶与气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glowdischarge)将气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。

?真空镀膜五金镀膜加工

真空镀膜加工技术的一般术语及工艺

2.1.8激光束蒸发：通过激光束加热蒸发材料的蒸发。

2.1.9间接加热的蒸发：在加热装置(例如小舟形蒸发器,坩埚,灯丝,加热板,加热棒,螺旋线圈等)中使蒸发材料获得蒸发所须的热量并通过热传导或热辐射方式传递给蒸发材料的蒸发。

2.1.10闪蒸：将很少量的蒸发材料间断地做瞬时的蒸发。

2.2真空溅射：在真空中，惰性气体离子从靶表面上轰击出原子（分子）或原子团的过程。

2.2.1反应性真空溅射：通过与气体的反应获得理想化学成分的膜层材料的真空溅射。

　真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。

真空镀膜加工与电镀全是两回事儿。真空镀膜加工是把物体放入真空室里，在真空状态下把所要镀的金属加热蒸发，然后被镀物体在里面转动把金属颗粒吸附在被镀物体表面，镀后为了不使金属颗粒氧化在表面再喷透明面油从而增加结合力和隔离空气。一般来说真空镀膜加工不能镀的材料是那些表面柔软易变形的材料，还有就是不易干燥的材料。电镀一般是ABS塑料才可以处理成导电体再电镀。

真空镀膜厂家 真空镀膜加工镀铝怎样镀厚

由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄，因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度，常用的检测方法如下：

①电阻法。电阻法是利用欧姆定律来对镀铝层的厚度进行测量，根据欧姆定律： R=pXL/S 单位面积镀铝薄膜的电阻值越小，其镀铝层的厚度越厚，反之则越薄。

电阻法检测镀铝层的厚度用表面电阻来表示，单位是Q，数值越大说明镀铝层厚度越薄，一般真空镀铝薄膜的表面电阻值为1.0～2.5Q。