放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极，与靶表面原子碰撞，受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子，其能量在1至几十电子伏范围。溅射原子在基片表面沉积成膜。与蒸发镀膜不同，溅射镀膜不受膜材熔点的限制，可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。溅射化合物膜可用反应溅射法，即将反应气体(O、N、HS、CH等)加入Ar气中，反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉积在基片上。沉积绝缘膜可采用高频溅射法。

1、本实用新型通过在底盘上设置旋转件，通过通孔和凸起的配合，手机扣厂，实现旋转件可相对底盘旋转；旋转件与旋转盖花键连接，实现旋转盖可随着旋转件转动；所述指环与所述旋转盖的边缘连接，使指环可相对旋转盖在旋转盖的边缘掀起，高埗手机扣，解决了现有技术中指环扣只能通过在底盘中部转动的问题；

2、在所述指环上设置装饰件，装饰件通过凸边与内轨的配合，使装饰件可以在内轨上活动，为产品增加动态的效果，增加产品的美感与趣味性；

本实用新型采用这样的结构设置，磁铁底座2与铁制指环4之间采用磁能吸附方式可实现数码产品360度无死角使用，同时采用吸附原理，便于磁铁底座2与铁制指环4的分离和隐藏，不使用的情况下也不影响美观。

更具体而言，所述磁铁底座2外层设有配套的外观铝件3，外观铝件3的外圆直径与铁制指环4的内圆直径相等。采用这样的结构设置，手机扣订做，在不使用的情况下，手机扣供应商，可以将铁制指环4套于外观铝件3上，起到隐藏铁制指环4的效果，不影响其外形的美观。

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