将其与传统的直线式电镀自动生产线相比，环形电镀自动生产线不仅电气控制比较简单，而且电镀工艺稳定，可连续生产。但它也有缺点，那就是生产线的机械结构复杂，制造和安装的时间较长，造价也比较高，所以一般它都是用于中小型工件的电镀。

而能满足大型、环形工件或中、小型工件的批量生产的还是直线式电镀自动生产线，所以大部分电镀加工厂运用比较普遍的还是这类生产线。由于直线式电镀自动生产线主要加工槽的数量是按生产量计算的，而辅助槽是按需要工序配备的，所以辅助槽负荷率较低。

放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极，与靶表面原子碰撞，受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子,其能量在1至几十电子伏范围。溅射原子在基片表面沉积成膜。与蒸发镀膜不同，溅射镀膜不受膜材熔点的限制,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。溅射化合物膜可用反应溅射法，即将反应气体(O、N、HS、CH等)加入Ar气中,反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉积在基片上。沉积绝缘膜可采用高频溅射法。真空镀膜可以在固态基体上镀制金属，合金，半导体薄膜及各种化合物薄膜拜，薄膜的成分可以在大范围内调控。

作为工程师，我们运用我们的技能，知识和经验来生产外观和精准的零件。还值得一提的是，使用更大的刀尖半径意味着您必须为完成通过留下更多材料。我们对我们生产的产品感到非常自豪，我们希望其他人看到成品的骄傲。但是当我们没有得到我们想要的结果时，我们该怎么办?在尺寸上，零件符合蓝图规格，但表面光洁度和整体外观不太理想?当发生这种情况时，我们需要回到基础并确保我们使用我们知道的加工方法。

更具体而言，所述外观铝件3外圆上均匀设有若干凹槽。通过凹槽便于取下套在外观铝件3上的铁制指环4,且其整体外形看上去更加美观。

[0022]以上为本实用新型较佳的实施方式，本实用新型所属领域的技术人员还能对上述实施方式进行变更和修改。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。因此，本实用新型并不局限于上述的具体实施方式，凡是本领域技术人员在本实用新型的基础上所作的任何显而易见的改进、替换或变型均属于本实用新型的保护范围。