离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜技术，LED纳米镀膜设备，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。　　

全SUS304不锈钢机身，隐藏式双层冷却水套设计　　

合理配备多套全新研制的离子弧源，有效保障弧源溅射的稳定性与均匀性　　

采用多路进气系统，精准控制气体流量，满足您多种化合物膜层需求。　　

装载大功率脉冲偏压电源，极大提高电粒子能量，从而获得的膜层结合力和光洁度　　

采用创新工艺制造，精益求精，通过欧盟CE和ISO质量管理体系认证；

采用化学气相沉积处理时，应注意以下问题：

（1）要考虑模具锐角部分的凸起变形

由于涂层与基体的线胀系数不同，模具棱角处容易产生应力集中，基材会被挤出形成凸起。可以采取的解决方法是：将锐角处加工成圆弧状，或是估计凸起变形量的大小，金属配件纳米镀膜设备，预先加工成锥形。

（2）CVD沉积温度高而带来的尺寸和形状变形

其变形程度取决于所选用的材料、形状、沉积温度、涂层厚度以及预备热处理等。

在CVD处理过程中，尺寸变形小的材料是硬质合金及含Cr高的不锈钢系合金；冲压加工领域使用的模具材料主要限于合金工具钢、冷作模具钢（Cr12MoV）、硬质合金等，其中快冷淬透钢，由于快冷时容易产生翘曲、扭曲等变形，所以不宜进行CVD处理；而高速钢是热处理膨胀较大的钢种，使用时必须充分估计其膨胀变形量。

纳米镀膜设备PCVD技术具有沉积温度低，纳米镀膜设备，沉积速率快，绕镀性好，薄膜与基体结合强度好，设备操纵维护简单等优点，用PCVD法调节工艺参数方便灵活，汽车配件纳米镀膜设备，轻易调整和控制薄膜厚度和成份组成结构，沉积出多层复合膜及多层梯度复合膜等膜，同时，PCVD法还拓展了新的低温沉积领域，例如，用PCVD法可将TiN的反应温度由CVD法的1000℃降到200～500℃，用PCVD法制备纳米陶瓷薄膜的特点是：产品的杨氏模量、抗压强度和硬度都很高，耐磨性好，化学性能稳定，性和腐蚀性好，有较高的高温强度。

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