一般来说，镀膜前要先洗车，然后抛光，其主要目的是做镜面还原。接着是涂上原材料的一道镀膜，起到打底作用，自然干燥后擦干净漆面，再做第二道镀膜，起巩固镀膜效果。但水电镀有个缺陷，只能镀ABS料和ABS PC料(此料镀的效果也不是很理想)。然后进入红外线灯烘烤阶段，让镀膜产品深度渗透。8个月后，再做二次的镀膜施工，目的是巩固镀膜效果，这个二次作业应包括在整个光学监控系统过程当中，如果只做了前面的一次镀膜，不能算真正意义上的镀膜全过程。

真空磁控阴极溅射法：平板玻璃在具有高真空的真空腔体内，处在负电压的两极间的工作气体正离子在正交电磁场的作用下飞向阴极，在很短的阴极位降区内获得很大的能量去迅速轰击靶材，从而使阴极(靶材)原子飞向玻璃基片--玻璃沉积膜层，溅射出的二次电子(此过程称γ过程)在电磁场作用下按旋轮线运动参与碰撞电离，蟹衍载流子，这样就能源源不断地轰击阴极，提供足够数量的正离子，形成的等离子区使持续辉光放电，其可以一次完成多层镀膜，有着的膜层均匀性，的边缘复盖和良好的附着力。镀膜有着优于和区别于其它真空磁控溅射镀膜机的地方是：它的平面磁控靶上的磁场是由环形磁铁产生的，可将半园环形磁铁看成是无限T微扇柱状磁铁的组合 。用Parylene涂敷的集成电路硅片细引线可加固5-10倍，Parylene还能渗透到硅片下面，提高硅片的结合强度，提高集成电路的可靠性。所以，其相应点磁标势较稳定，才能生产出均匀牢固的镀膜层。

高真空离子镀适用范围比较广，如ABS料、ABS PC料、PC料的商品。传统水电镀技术流程杂乱、环境污染大、设备成本高、对作业人员身体伤害大，电镀出来产品外观损坏大，产品稳定性差。塑料基材与真空镀层通常为金属)两者热膨胀系数相差很大，在真空镀膜升温、降温过程中膜层容易，膜层越厚，的可能性越大，因此选用合适的涂层作为过渡层，可以减少内应力的积累和的发生。而高真空离子镀它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，也就是我们俗称的真空镀膜。

真空镀膜加工表面的清洁处理非常重要，直接影响到电镀的产品品质。同时，物***相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。加工件进入镀膜室前一定要做到认真的镀前清洁处理，表面污染来自工件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、 机油、抛光膏、油脂、汗渍等物，为了避免加工过程中造成的不良，真空镀加工厂家基本上可采用去油或化学清冼方法将其去掉。

塑料在真空镀膜前为何要涂层？

大多数塑料在真空镀膜之前，一般先要涂覆底涂层，主要原因是有以下几点：

一：塑料在成型后，表面肯定有的粗糙度，比如有0.5um的粗糙度。

真空镀膜层很薄，很难掩盖基材表面的凹凸不平，如果采用底涂技术，光固化涂层厚度约10~20um，涂层自身粗糙度在0.1um以下，因此可大大提高镀层的光亮度。