1.1真空镀膜vacuumcoating：在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。

1.2基片substrate：膜层承受体。

1.3试验基片testingsubstrate：在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和（或）试验的基片。

1.4镀膜材料coatingmaterial：用来制取膜层的原材料。

1.5蒸发材料evaporationmaterial：在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。

1.6溅射材料sputteringmaterial：有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。

1.7膜层材料(膜层材质)filmmaterial：组成膜层的材料。

1.8蒸发速率evaporationrate：在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔

1.9溅射速率sputteringrate：在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。

1.10沉积速率：在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。

1.11镀膜角度coatingangle：入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。

硅胶纳米镀膜设备一般真空室内漏气都是从室壁上的小孔或者部件之前的链接位细缝中产生，当抽风系统抽气后使真空室内压力下降，外部与内部的压力使气体从压力高的外部流向压力低的真空室，造成真空度下降。为真空镀膜设备做好检漏工作是很重要的，造成真空度下降的原因很多，所以要解决这些原因稳定镀膜的效果。

当真空镀膜设备抽泵连续工作一个月的时候，我们需要重新更换新油，将泵油内的旧油完全排放出来然后加入新的泵油至一定量。

今天我们就先来看看磁控溅射镀膜膜层发皱、龟裂的原因及解决方法。

1、蒸发速度太快。应适当减慢。

2、涂料的粘度太高。应适当降低。

3、膜层太厚。应适当缩短溅射时间。

4、镀件温度太高。应适当缩短对镀件的加温时间。

5、底漆喷涂得太厚。应控制在7—lOtan厚度范围内。

磁控溅射镀膜适合于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等多个行业，为了避免影响产品质量，出现膜层发皱、龟裂等问题一定要及时解决。关于磁控溅射镀膜膜层发皱、龟裂的原因及解决方法就为你介绍到这了，如有更多疑问或需求，欢迎你直接来电。