手机镀膜机的主要用途

多功能化学气相沉积设备，以提高太阳能电池的光电转换效率。

(2)装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。

(3) 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机

(4)化学气相沉积(MOCVD)生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。

(5) 在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。

1.1真空镀膜vacuumcoating：在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。

1.2基片substrate：膜层承受体。

1.3试验基片testingsubstrate：在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和（或）试验的基片。

1.4镀膜材料coatingmaterial：用来制取膜层的原材料。

1.5蒸发材料evaporationmaterial：在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。

1.6溅射材料sputteringmaterial：有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。

1.7膜层材料(膜层材质)filmmaterial：组成膜层的材料。

1.8蒸发速率evaporationrate：在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔

1.9溅射速率sputteringrate：在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。

1.10沉积速率：在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。

1.11镀膜角度coatingangle：入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。

PVD是物***相沉积技术的简称，是指在真空条件下，采用物理的方法将材料（俗称靶材或膜料）气化成气态分子、原子或离子，并将其沉积在工件形成具有某种特殊功能的薄膜的技术，常见的PVD沉积技术有：蒸发技术、溅射技术、电弧技术。

离子镀膜技术是PVD技术的一种，是指在PVD沉积过程中，被镀材料形成金属或者非金属等离子体（如Ti离子，N离子），等离子体在偏压电场的作用下，沉积在工件表面上。由于离子镀过程中，离子的能量更强，离子绕射性更好，膜层的结合力更好，膜层致密性也更好，膜层性能更好。