但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

2.化学组分上的均匀性：

就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。

3.晶格有序度的均匀性：

这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。

手机镀膜机的工艺流程，塑料薄膜的镀铝工艺一般采用直镀法，即将铝层直接镀在基材薄膜表面。BOPET、BOPA薄膜基材镀铝前不需进行表面处理，可直接进行蒸镀。而BOPP、和CPP、PE等非极性塑料薄膜，在蒸镀前需对薄膜表面进行电晕处理或涂布黏合层，使其表面张力达到38-42达因/厘米或具有良好的粘合性。蒸镀时，将卷筒薄膜置放于真空室内，关闭真空室抽真空。

减反射镀膜意义重大,大幅提升用户体验:现阶段几乎所有手机、平板电脑屏幕在阳光下的可视效果都非常差,主要是表面盖板玻璃(主要成分为SiO2和Al2O3)折射率较高,超过1.5,即使是好的面板反射率仍有5%。想要提高可见度,有两种方法,一是提高屏幕亮度,二是降低屏幕反射;但前者会增加耗电量,进一步缩短本已不长的智能终端待机时间。所以在改变玻璃表面采用减反射技术意义重大,可降低电子产品在室内外的反射光,减少电量消耗,大幅提升用户体验。