真空镀膜技术的应用时较早的。20世纪初大发明家爱迪生就提出了唱片蜡膜采用阴极溅射进行表面金属化的工艺方法，并于1903年申报了专利，这便是薄膜技术在工业上应用的开始。但是这一技术在当时因受到真空技术和其他相关技术发展的限制，发展速度较慢。制备各种光学镜片和反光镜，气相沉积设备厂家，从而首先使用这一技术在光学工业中得到了迅速的发展。并且逐渐形成了薄膜光学，气相沉积设备厂商，成为光学的一个重要分支。

手机镀膜机的主要用途

气相沉积设备，以提高太阳能电池的光电转换效率。

(2)装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。

(3) 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机

(4)化学气相沉积(MOCVD)生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。

(5) 在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。

气相沉积设备蒸发真空镀膜设备的日常维护，这样才能够让设备进行工作。

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