在真空条件下加热工件，真空镀膜设备生产厂家，主要依赖辐射。由于辐射传热与温度的4次方成比例，真空镀膜设备价格，所以在850℃以下辐射效果不高，工件加热速度很慢；其次，因为金属材料中的某些合金元素在低压条件下加热时有蒸发损失现象，会造成表面合金元素的贫乏，以致影响其淬火后的表面层性能。对流加热技术是指先将真空镀膜设备真空炉炉膛抽到一定真空度，然后通以0．1—0．2MPa的惰性（Ar、He）、中性（N2）或还原性（H2）气体，并在充分搅动条件下施行加热，与在单纯真空条件下比较，加热速度至少可提高一倍以上。

如果真空镀膜设备持续不断的使用了6个月以上，真空镀膜设备的抽速就会有明显的变慢，那怎样去维护呢？本文主要讲诉了对真空镀膜设备长时间运行后的要点。

首先，必须要冲入大气，拆去连接水管，将一级喷嘴拧出来，再用将泵腔以及泵胆清洗一下，再使用洗衣粉兑清水再清洗一次，待水份挥发干后，装好泵胆，重新加入新扩散的泵油并装回机体重新开机。真镀膜设备在重新开机时要特别注意捡漏工作，先观察扩散泵部分是否达到6*10PA，否则需要进行检漏。检查连接处是否密封，或压坏密封圈。排除漏气隐患后才可以加热，否则扩散泵油会烧坏导致无法进入到工作状态。

PVD是物***相沉积技术的简称，是指在真空条件下，采用物理的方法将材料（俗称靶材或膜料）气化成气态分子、原子或离子，并将其沉积在工件形成具有某种特殊功能的薄膜的技术，常见的PVD沉积技术有：蒸发技术、溅射技术、电弧技术。

离子镀膜技术是PVD技术的一种，是指在PVD沉积过程中，被镀材料形成金属或者非金属等离子体（如Ti离子，真空镀膜设备，N离子），等离子体在偏压电场的作用下，沉积在工件表面上。由于离子镀过程中，真空镀膜设备制造商，离子的能量更强，离子绕射性更好，膜层的结合力更好，膜层致密性也更好，膜层性能更好。

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