真空镀膜设备厂-镀膜设备-拉奇纳米(查看)
作者:拉奇纳米2020/1/30 12:17:22





总之,化学气相沉积就是,利用气态物质在固体表面上进行化学反应,生成固态沉积物的过程。其过程如下:

(1)反应气体向工件表面扩散并吸附。

(2)吸附于工件表面的各种物质发生表面化学反应。

(3)生成物质点聚集成晶核并长大。

(4)表面化学反应中产生的气体产物脱离工件表面返回气相。

(5)沉积层与基体的界面发生元素的相互扩散,而形成镀层。

CVD法是,将工件置于有氢气保护的炉内,加热到800℃以上高温,镀膜设备,向炉内通入反应气体,使之在炉内热解,化合成新的化合物沉积在工件表面。在模具的应用中,其覆膜厚度一般为6-10μm。




离子镀,是在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质离子化,在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下,把蒸发物质或其反应物蒸镀在工件上。离子镀把辉光放电、等离子技术与真空蒸镀技术结合在一起,不仅明显地提高了镀层的各种性能,而且,真空镀膜设备厂,大大扩充了镀膜技术的应用范围。

离子镀除兼有真空溅射的优点外,还具有膜层的附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等优点。例如,利用离子镀技术可以在金属、塑料、陶瓷、玻璃、纸张等非金属材料上,涂覆具有不同性能的单一镀层、合金镀层、化合物镀层及各种复合镀层,而且沉积速度快(可达755m/min),镀前清洗工序简单,对环境无污染,因此,近年来在国内外得到了迅速的发展。


采用化学气相沉积处理时,应注意以下问题:

(1)要考虑模具锐角部分的凸起变形

由于涂层与基体的线胀系数不同,模具棱角处容易产生应力集中,基材会被挤出形成凸起。可以采取的解决方法是:将锐角处加工成圆弧状,或是估计凸起变形量的大小,预先加工成锥形。

(2)CVD沉积温度高而带来的尺寸和形状变形

其变形程度取决于所选用的材料、形状、沉积温度、涂层厚度以及预备热处理等。

在CVD处理过程中,纳米镀膜设备,尺寸变形小的材料是硬质合金及含Cr高的不锈钢系合金;冲压加工领域使用的模具材料主要限于合金工具钢、冷作模具钢(Cr12MoV)、硬质合金等,真空镀膜设备厂家,其中快冷淬透钢,由于快冷时容易产生翘曲、扭曲等变形,所以不宜进行CVD处理;而高速钢是热处理膨胀较大的钢种,使用时必须充分估计其膨胀变形量。




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