但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

2.化学组分上的均匀性：

就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。

3.晶格有序度的均匀性：

这决定了薄膜是单晶，纳米镀膜技术，多晶，纳米镀膜加工厂，非晶，纳米镀膜，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。

金手指镀膜在金手指表面形成一层纳米镀膜，主要有如下作用：

·降低镀金层厚度甚至用镀银取代镀金，纳米镀膜厂商，大大降低生产成本·金手指表面不再担心污染问题，所有脏污可以方便地清洗去除。

·镀膜金手指可以耐300℃以下高温不会出现氧化变色问题，从而可以实现***T工艺时免贴胶带过炉。

镀膜SOCKET在Socket表面形成一层纳米镀膜， 可有效改善同BGA等半导体器件的接触性能， 降低磨损，延长接触寿命。

将纳米液渗透在无尘纸上， 用于含有银金属材料产品之包装、运输及储存，是一种既经济，又环保的长期防止硫化的理想包装材料。

晶格有序度的均匀性：

这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。

主要分类有两个大种类：

蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等

一、对于蒸发镀膜：

一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。

厚度均匀性主要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3、蒸发功率，速率

4、真空度

5、镀膜时间，厚度大小。

组分均匀性：

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

晶向均匀性：

1、晶格匹配度

2、基片温度

3、蒸发速率

纳米镀膜厂商-拉奇纳米-纳米镀膜由东莞拉奇纳米科技有限公司提供。行路致远，砥砺前行。东莞拉奇纳米科技有限公司（www.dglqnm.com）致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，更矢志成为机械加工具影响力的企业，与您一起飞跃，共同成功!