Parylene 薄膜的制备聚合过程：常用制备派瑞林的方法是化学气相沉积法(CVD)，反应物质在气态条件下发生空间气相化学反应，涂层表面处理，在固态基体表面直接生成固态物质，进而在基材表面形成涂层的一种工艺技术。派瑞林薄膜制备过程为环状二聚体在高温下两个相连碳碳键断裂，生成具有活性的对二亚单体，当其从高温环境进入室温环境的沉积室时，不稳定的单体就会聚合成膜。整个制备工艺过程分为三步：单体的汽化、裂解、在基材表面进行附着沉积。

Parylene薄膜具有厚度均匀、致密无、透明无应力、优异的电绝缘性和防护性等特点，pcb表面处理，可应用在光电材料、磁性材料、服装及保护等领域，因其生物兼容性和生物稳定性，还可以应用在***领域。然而，需要注意的是，Parylene涂覆对于材料表面的要求比较高，要求附着力好，无杂质，表面处理，因此在进行涂覆前，必须对物件的表面进行一定预处理，以增加涂覆物件的附着力。

东莞菱威纳米科技有限公司，是一家从事【parylene派瑞林】纳米镀膜加工和技术服务的公司，***提供【派瑞林】镀膜工程解决方案商，拥有十多年行业经验，跟一支的技术及管理团队。

东莞菱威纳米，致力于【真空纳米镀膜技术】及【镀膜设备】的生产和研发，商业模式变革，建立从基础研究、工程化设计、产业化生产的全产业链平台，汽车表面处理，通过自主创新、自主研发，实现工业4.0产业革命，努力打造自动真空镀膜产线，成为智能化、自动化、工程化的【派瑞林镀膜】一站式解决方案供应商。

Parylene独特的制备工艺和优异性能相结合，使它能对小型超小型磁材进行无薄弱点全涂敷的磁材可浸盐酸10天以上不腐蚀，目前国际上小型超小型磁材，几乎都采用Parylene作绝缘和防护涂层。

ParyleneHT 是苯环上的4个氢原子被氟取代，与C，N，D比较，其薄膜的介电强度高、介电常数低(即透波性能好)，热稳定性好。薄膜本身连续、致密、无，短期耐温可达450摄氏度，长期耐温可达350摄氏度，并具有强的抗紫外线能力，更适合作为高频微波器件的防护材料。采用真空气相沉积工艺制备(CVD)的0.1-100微米薄膜涂层，厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性，是当代***有效的防潮、防霉、防腐、防盐雾涂层材料。

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