在真空条件下成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,纳米镀膜厂家,对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低。
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根据Arrhenius外推法的数据,ParyleneC预计可以暴露在持续100℃的空气下10年(100,000小时)。在无氧的气体环境或者在真空状态下,Parylene估计可以暴露在220℃的温度下持续相同的时间。在所有的情况下,纳米镀膜,高温降低使用寿命。如果应用的环境要求接近或者超过了这个时间——温度——空气环境,建议用更接近实际使用环境的条件进行全部的测试。Parylene可以经过韧化来提高击穿阻抗,提高硬度及改进摩擦阻抗。这是密度和结晶度提高的结果。
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