虽然,早在十余年前,国际化工已经成功地占领了我国镀镍光亮剂市场,可是近些年来,在吸收与学习国外***技能的一起,我国电镀职业的研讨学者与企业家也在不懈努力着,并取得了很大进展。他们的心中都有着相同的目标:为打造民族品牌而战。跟着我国电镀光亮剂科研技能的长足进步,国产品牌镀镍光亮剂产品在不断研讨,不断改进的情况下,发挥自己所长、避自己所短,终于在激烈的市场竞争中都会找到了正确的自身***。
***铜:***铜提供铜离子,以使其在工件表面还原成铜镀层,镀液中铜含量过低,容易在高电位造成烧焦,铜含量过高,***铜有可能结晶析出,导致阳极钝化。
酸铜光亮剂MU:开缸剂不足时,镀层的高中电位出现树枝状条纹,开缸剂过多低电位会产生雾状沉积,出光速度慢。
酸铜添加剂A含量过低时,出光速度慢,光亮度差,低电位走位差,填平差,酸铜添加剂A过多时,镀件高中电位出光特快,甚至高电位边缘出现烧状铜粒,条纹,低电位走位差,没有填平,与其他位置的镀层有明显分界,试片低电位仍光亮。
随着电池和电子工业的发展,对电镀镍深镀能力提出了新的要求。5#、7#和矩形电池壳等带深孔的零件要求内壁有镍镀层。一般电镀镍工艺是无法满足这一要求的。1991年先研究成功了电池壳滚镀镍工艺,并已在***各地广泛应用。近来对电池壳的防腐蚀性又提出了更高的要求,因此我们对电镀工艺和添加剂作了进一步的改进,对镀层的致密度有了较大的提高。由促进剂、深镀剂和特殊的光亮剂A、B相配合,因而使镀液有很好的深镀走位能力。
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