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浸渗原理：浸渗(impregnation)又叫含浸、渗透。通过真空压力浸渗设备将其浸渗胶（浸渗剂）充分渗入工件微孔中，填充微孔间隙，有效的防止了工件的泄漏以及腐蚀，从而达到密封补漏的目的。

　　具体的说，通过浸渗技术可以；

　　1、防止受压泄漏，可加收大量的报废铸件；

　　2、提高材料强度；

　　3、防止腐蚀；

　　4、提高电镀和表面油漆装饰件的质量；

　　5、提高金属零件的切削性能。

　　当前国内外许多厂家将浸渗技术被确认为一项必不可少的工序。

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用户使用建议：电气系统产品的使用寿命及使用效果同温度、电压、电流、负载、电路设计合理性及环境密切相关；良好的环境、及时的维护能让产品发挥更佳的效能，为用户节省更多的资源创造更多财富，使用前要注意主回路电源线路要连接牢靠，设备充分接地，动力线及控制线要分开，使用稳定的电源，闪电、雷击、过高过低电压及干扰均会损害电子产品器件，机械负载故障要及时排除，长期使用要注意线路的接头是否松脱，避免线路散乱及磨损，各部件的连接要牢靠，清洁维护需***的人员操作，长期不使用再次使用时要检查后通电30分钟以上再启动，有故障或使用问题及时联系我司服务中心。 该款产品可根据用户需求开发定制专用功能，免费培训打版师及系统操作员。

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动、定模分别采用油缸–隧道式结构侧抽斜向通孔凸台，应用斜推杆机构侧抽倒钩和竖筋上的通孔，塑件脱模机构采用推杆、推管(顶出安装凸台)推出，复位杆复位的形式[1]。1.1浇注系统设计[2]热流道浇注系统虽然在一定程度上提高了成本，但对于大尺寸塑件，可以很好地解决由于熔体流程过长导致的充模困难和塑件变形等缺陷，同时具有节省原材料、提高塑件表面质量、易实现自动化、提高c效率等优点，因而越来越受到广泛应用。由于塑件较大，腐蚀面板加工厂家，同时表面质量要求较高，因此采用带有3个喷嘴的热流道系统将熔融料输送到分型

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本实用新型涉及干法刻蚀技术，特别涉及一种干法刻蚀设备。

技术背景 图I为现有干法刻蚀设备的结构示意图，如图I所示，干法刻蚀设备包括反应腔(Chamber) 5，设置于反应腔(Chamber) 5上的垫板4、以及设置于反应腔(Chamber) 5中的挡光板I。现有的干法刻蚀设备在对玻璃(Glass)基板进行刻蚀的工艺中，珠海腐蚀面板加工，由于设备的上部电极结构复杂以及设备老化等原因，经常会出现垫板4断裂以及其他零部件损坏而导致反应腔(Chamber) 5真空***(Leak)的现象，由此，大气会进入反应腔(Chamber) 5内部，大气中的氮气等与反应腔(Chamber) 5内的气体混合，混合后气体颜色会由蓝色变成红色或***，出现颜色异常。现有结构无法对等离子体(Pla***a)颜色进行监控，导致在后工序才能发现，这会严重影响良品率。

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在集成电路制造工艺中，刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅表面去除不需要的材料，在硅片上所需图形的后图形转移的工艺步骤。干法蚀刻和湿法蚀刻是半导体制造中两种基本的刻蚀工艺。干法蚀刻各向异性可以实现细微图形的转换，满足越来越小的尺寸要求，已成为亚微米及以下尺寸主要的蚀刻方式。在实际生产中，公司追求产能和良率。就二氧化硅的干法蚀刻而言，需要优化诸如蚀刻速率、均匀性、选择比等蚀刻参数。因在蚀刻过程中，刻蚀的理想条件经常漂移，工艺工程师不仅需设定优化蚀刻效果的蚀刻菜单，还需在理想条件漂移时及时做出调整。本文选取了影响蚀刻效果的主要工艺参数，如射频、压力、蚀刻气体等做正交试验，确定其具体的影响程度，为参数设置和调节提供依据。

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