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***机一般根据操作的简便性分为三种，手动，半自动，全自动，光刻机又名:掩模对准***机，***系统，光刻系统等。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干，涂底，旋涂光刻胶，软烘，对准***，后烘，显影，硬烘，刻蚀等工序。

光刻意思是用光来制作一个图形（工艺），在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时放到硅片上的过程。