接近式***:掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙,Gap大约为0~200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤,使掩膜和光刻胶基底能耐久使用;掩模寿命长(可提高10 倍以上),图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用较为广泛。
投影式***:在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现***。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。优点:提高了分辨率:掩膜板的制作更加容易:掩膜板上的缺陷影响减小。
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