对于优良侧面效果的制造方式﹐外界均有不同的理论、 设计方式和设备结构的研究， 而这些理论却往往是人相径庭的。 但是， 有一条基本的原则已被公认并经化学机理分析 证实﹐就是尽速让金属表面不断地接触新鲜的蚀刻液。 在氨性蚀刻中﹐假定所有参数不变 ﹐那么蚀刻的速率将主要由蚀刻液中的氨（NH3）来决定。因此， 使用新鲜溶液与蚀刻表面 相互作用﹐其主要目的有两个﹕冲掉刚产生的铜离子及不断为进行反应供应所需要的氨 （NH3）。
去边（Edge bead removal-EBR）--去胶边的过程，通常在涂胶后将溶剂喷在硅片的背面或前 边沿上。 前烘（Soft-bake）-- 在涂胶后用来去除胶溶剂的温度步骤。 ***-- 把涂胶后的硅片，亚克力面板定制，暴露在某种形式的射线下，亚克力面板价格，以在胶上产生隐约的图像 的步骤。 PEB —***以后消除胶里的由衬底反射引起的胶里的驻波的温度步骤。 显影（Development）-- 在***以后分解胶产生掩膜图案的过程。 后烘 (Hard-bake)—用来去除残留溶剂，增加胶的沾着力和耐腐能力，在显影后完成，可以包 括 DUV 固胶。

注: a.烘干速度应与碱洗速度相同； b.水洗时水量较大，深圳亚克力面板，要确保冲洗干净。 (4)注：开机运行到设定温度后(约 15~20 分钟)，亚克力面板加工，方可测试酸液及碱液的浓度，其在规定范围内可进行生产。

二、酸溶液的配制 1.酸液 1)第二槽酸液配制方法: a.开槽配 360 升左右酸液 b.配制比例: 盐酸 HCL(36~38%) : 纯水 H2O 1 : 1.5 c.取 178 升的 HCL 慢慢加入 267 升纯水中(边搅拌边加入) 。配好后测试酸的当量浓度，在范围内方可使用。

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