标牌的蚀刻

蚀刻：蚀刻是不锈钢标牌制作的主要采用手法之一。 （一） 表面保护

1、涂耐腐蚀的感光油墨

首先选择200目的丝网网版。丝网网版必须特干净，大小适中。把它牢牢固定在***的手工网印平台架子上，把不锈钢板放在丝网网版的中心位置，让不锈钢板的边与对应的丝网网版内框保持6厘米左右的距离，太近和太远都不合适。放在恰当的位置后，用透明胶带粘在四周 ，粘的时候一定要仔细地用手边粘边压，这样才不会在透明胶带和网版之间留有气泡，让它们充分接触，在涂感光油墨时不会涂到不锈钢板外面。中间没粘透明胶带部分正好和不锈钢板的大小吻合，这样在涂耐腐蚀的感光油墨的时候，位置才会准确。有了一个清晰的目标就会使企业方（客户），设计及承造方少走弯路程，效率显著，并容易使双方能在一稿后即可进入一个更高层面思考、论证方案。全部粘好后，把表面再清理一下，以保持丝网网版纱面的清洁。

我们选择一块1厘米厚的垫板，把它放在丝网网版与网印平台架子面板的后面，它们之间的这个距离，这就是网距。一般是使丝网网版张力大，网距小.，这样刮印油墨后能及时弹起。

耐腐蚀的感光油墨在使用前，要调整稀稠度，在冬天，油墨很容易凝固。可以先把它放在烘箱里烘一会儿。烘箱的温度设置在88度，让它自动控制，5分钟后拿出来，充分搅拌，没有气泡，像这样了才能使用。

准备一把斜面有弹性、平整、无缺口，表面干净的橡胶刮板。

把适量的感光油墨，放在丝网网版的纱面上，形成一个条状，就可以用刮板开始刮了，刮的时候，用力要合适，速度也要恰到好处，刮1到2遍后，把丝网网版掀开，如果印在不锈钢板上的感光油墨厚薄非常均匀，就可以用手托在它的反面，把它拿出来，注意不要将涂有感光油墨的那面弄脏。要达到这一个要求﹐必须保证蚀刻液在蚀刻的整个过程始终保持在很好的蚀刻状态。

要说明的是， 经常会遇到这样的情况，刮2遍后，效果还是不好，那就要放弃了。否则油墨太厚也是不行的。

在30度左右的温水中，加入适量工业用弱碱性的碳酸钠，比例大约是20：1，搅拌均匀后放入感光油墨没有涂均匀的不锈钢板，涂层很快就会脱离不锈钢表面，再用干净的布把感光油墨彻底擦掉，然后用清水漂洗，用吹风机吹干，就可以重新再印了。

2、烘干

把涂好感光油墨的不锈钢板放在烘箱里，温度设置在88度，烘的时间为15到20分钟。烘干后，把吹风机调到冷风档，给不锈钢板降温，也可以让它自然降温。

蚀刻机运转正常后，先在入料口放一块试刻用的不锈钢板，传送带会把它缓慢的送入机器内部。按下蚀刻开关，机器内的喷嘴就开始喷出三氯化铁溶液，它的压力基本上是恒定的。三氯化铁溶液不断地冲刷不锈钢板的表面，溶液中的三价铁离子快速氧化不锈钢板，不锈钢板就被蚀刻下去了。主要查采用掩膜、蚀刻后处理三步进行加工制做而成的凸字金属标牌或凹字金属标牌。

冲刷时间的长短就决定了蚀刻的深度。

提示：如果蚀刻太深，要提高传送带前进速度：如果蚀刻太浅，要降低传送带前进速。

大约3分钟后， 我们可在出料口拿到试刻的不锈钢板，用手试摸一下蚀刻的深浅程度，如果手指上感到有点高低的感觉，这时的深度在大概在0.1毫米，就可以开始正式蚀刻。

4、正式蚀刻

把坚好膜 并在反面贴上了防腐保护膜的那二块不锈钢板放在入料口的合适位置，按下蚀刻开关，蚀刻机就开始对不锈钢板进行蚀刻，3分钟后，我们就在出料口看到了的这两块不锈钢板，仔细检查一下，像这样就达到了我们要求的蚀刻效果。

5、褪膜

先把蚀刻好的不锈钢板放入清水中，用干净的布将三氯化铁溶液洗去。然后放入另一个盛有清水的容器中，摆动几下，将表面洗干净，再把不锈钢板反面贴的防腐保护膜撕掉，将这二块不锈钢板，放在盛有固体的容器里，按1：10左右的比例加入七、八十度的热水，摆动容器，使充分的溶解。我们可以看到，两块不锈钢板上残留的膜都会慢慢地全部退去。摆动到水温为二、三十度了，才可以拿干净的布将它们擦洗干净。5%)60～100ml/l，磷酸(85%)20～45ml/l，复合光亮剂1～5g/l，缓蚀剂0。再把不锈钢板放入盛有清水的桶中进行漂洗。

蚀刻好的标牌半成品就是这个样子。让它自然晾干就行了。

金属标牌蚀刻突破瓶颈的新模式

　金属标牌蚀刻是一种全新的蚀刻工艺，标牌顾名思义大家都知道是什么，金属标牌所选用的材料一般为铝、铜、不锈钢板。而铝所选用的铝版一般为拉丝铝板，拥有精致的线条纹路，使印刷出来的铝牌显得十分的精巧、美观。而轻，柔，美就是铝牌的特点。这种铝表面还有一层保护膜保护好铝牌不被刮花。其中条件设计由如下程序进行：流程图－布点***－规格－内容－色彩。蚀刻就是在它的上面进行加工，一起来看看金属标牌蚀刻突破瓶颈的模式吧！

突破性的蚀刻技术实现原子级的蚀刻精准性，从而推动摩尔定律发展；随着芯片结构日益精细，选择性工艺可在不损伤芯片的前提下清除不需要的材料；比如说﹐与锥形喷嘴相比﹐采用扇形喷嘴的设计效果更佳﹐而且喷淋集流腔（即喷嘴拧进去的那一段管）也有一个安装角度﹐对进入蚀刻舱中的工件呈30度喷射﹐若不进行这样的改变,集流腔上喷嘴的安装方式将会导致每个相领喷嘴的喷射角度都不一致。该系统已获得芯片制造商青睐，用于生产***FinFET和存储芯片生产***芯片的一个重要壁垒是在一个多层结构芯片中有选择性地清除某一特定材料，而不***其他材料是我们在蚀刻领域中的又一大创新，丰富了我们的差异化产品线，通过实现选择性清除工艺，推动了摩尔定律发展，创造了新的市场机遇。

随着***微型芯片的结构日益复杂，其深而窄的沟槽为芯片制造带来了全新的挑战，例如湿性化学成分无法穿透微小结构，或是无法在不损伤芯片的前提下清除不需要的物质。Selectra系统的革命性工艺可进入极狭小的空间，从而实现的选择性材料清除和原子级的蚀刻精准性，适用于各类电介质、金属和半导体薄膜。其广泛的工艺范围以及控制无残留物和无损伤材料清除的能力，显著扩大了蚀刻技术的应用范围，可用于图案化、逻辑、代工、3DNAND及DRAM等关键蚀刻应用。但是,有一条***基本的原则已被公认并经化学机理分析证实﹐就是尽速让金属表面不断地接触新鲜的蚀刻液。凭借Selectra系统的丰富功能，芯片制造商能够生产出***的3D设备，并探索新的芯片结构、材料和集成技术。

负载（Loading）-- 蚀刻速率依赖于可蚀刻表面数量，可在宏观或微观尺寸下。 纵横比决定蚀刻（Aspect Ratio Dependent Etching/ARDE）--蚀刻速率决定于纵横比。 终点（Endpoint）-- 在一个蚀刻过程中，平均膜厚被蚀刻干净时的时间点。 光刻胶（Photo-resist）-- 作为掩膜用来图形转移的光敏材料。 分辨率（Resolution）-- 用于测试光学系统把相邻的目标形成分离图像的能力。 焦深 (Depth of focus) – 在焦平面上目标能形成影像的纵向距。然后﹐再用空气刀在水漂洗之前将板面上多余的溶液去除﹐从而减轻了水对铜的蚀刻的盐类的漂洗负担。 关键尺寸（Critical dimensi-CD）-- 一个特征图形的尺寸，包括线宽、间隙、或者 关联尺寸。