金属蚀刻标牌

通常所指蚀刻也称光化学蚀刻（photochemical etching），指通过***制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

***早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；本文针对国产不锈钢板材，研究了化学蚀刻、化学抛光和电镀铬工艺参数不锈钢蚀刻标牌不锈钢化学蚀刻配方和工艺参数为:fecl3660～850g/l、hcl(36%)8～20ml/l，添加剂10～20g/l，温度45～50℃。经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。

在制作铝蚀刻标牌中,表面抛光怎样才不伤到底色

1）蚀刻深度不能太浅；

2）填的漆料不能太稠，不能失去流动性。太稠的油漆容易高出牌面，更容易被抛光伤及。

3）填漆后再抛光，要用烤漆，如氨基烘漆（烘烤115－125度），也可用加固化剂的漆。普通硝基漆***易抛掉。

4）填漆后要有足够的干燥固化时间。

5）抛光时用力要均匀，尽量不要横向竖向乱抛。

6）还有一个非常有效的方法就是预先抛光。一次抛得就比较亮了，在网印、腐蚀、清洗、填漆过程再稍加注意不要划伤版面，那么***后一次抛光就容易得多。一些精档的金属填漆标牌都要抛两遍光。

温度的影响

蚀刻速率与温度有着很大的关系, 蚀刻速率会随着温度升高而加快。 蚀刻液温度低 于 40℃﹐蚀刻速率会很慢﹐而蚀刻速率过慢则会增大侧蚀量﹐影响蚀刻质量。 当温度高于 60℃﹐蚀刻速率会明显地增大, 但 NH3 的挥发量也大大地增加﹐导致环境污染并使蚀刻液中 化学组份比例失调。金属标牌蚀刻工艺流程金属的种类不同，其蚀刻工艺的流程也不同，标牌蚀刻是现在比较常见的一种形式，因成本较低，收入稳定大受欢迎，很多人在选择蚀刻加工时都会选择标牌蚀刻法。 故一般应控制在 45℃~55℃为宜。

蚀刻液的调整

自动控制调整 随着蚀刻的进行, 蚀刻液中铜的含量不断增加﹐比重亦逐渐升高。 当蚀刻液中铜浓 度达到一定的高度时就要及时调整。 在自动控制补加装置中﹐是利用比重控制器来控制蚀 刻液的比重。 当比重升高时﹐会自动排放出溶液﹐并添加新的补加液﹐使蚀刻液的比重调 整到允许的范围。在相关的化学蚀刻（亦称之为光化学蚀刻或PCH）领域中﹐研究工作已经开始﹐并达至蚀刻机结构设计的阶段。 补加液要事先配制好并放入补加桶内﹐使补加桶的液面保持在一定的高 度。