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湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。
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我国的洁净室工程开始于20世纪60年代初,***厂净化工程,在70年代电子工业洁净室特别是半导体集成电路用洁净室的设计、建造发展很快,相继建成一批洁净厂房,并研制成功100级单向流洁净室;与此同时,洁净厂房用设备和材料,***厂净化工程价格,如过滤器,***厂净化工程报价,洁净工作台、层流罩、洁净烘箱、空气吹渊室、净化型传递窗等相继研制成功,并投入生产,虽然制造质量和某些工程指标与国际水平尚有差距,但已能满足国内部分需求。由过滤器、净化设备和围护结构(墙板、顶棚.地面)组装而成的装配式洁净室研制成功。到20世纪70年代末我国洁净室设计、建造和洁净工程的发展走向成熟阶段。
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光学微电子行业净化工程设计方案分析
对于常规电子厂房洁净室空调的设计,应根据电子厂房的生产工艺要求及甲方的经济条件来选用哪种空调设计方案,以满足生产工艺的要求作为前提。根据以往经验,对于要求高的可以选用组合式空气处理机组集中处理的空调方案;对于要求不高的,又要初***低的,可以选用柜机 FFU。总之,具体的方案选择根据具体情况而定。
●净化工程中各级空气洁净度的空气净化处理,均应采用初效、中效、高1效空气过滤器三级过滤。100000级空气净化处理,可采用亚空气过滤器代空气过滤器。
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