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学微电子净化工程净化原理

气流→初效净化→空调→中效净化→风机送风→管道→高1效净化风口→吹入房间→带走尘埃***等颗粒 → 回风百叶窗→初效净化 重复以上过程，******室净化工程收费，即可达到净化目的。

光学微电子净化工程净化参数

换气次数：100000级≥15次；10000级≥20次；1000≥30次。压差：主车间对相邻房间≥5Pa

平均风速：10级、100级0.3－0.5m/s；温度 冬季gt;16℃；夏季 lt;26℃；波动±2℃。

温度45－65%；GMP车间湿度在50%左右为宜；电子车间湿度略高以免产生静电。

噪声≤65dB（A）；新风补充量是总送风量的10%－30%；照度300LX。

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洁净室之作用在于控制产品（如硅芯片等）所接触之大气的洁净度日及温湿度，******室净化工程，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为洁净室。按照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的影响，******室净化工程费用，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。

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20世纪80年代大规模集成电路和超大规模集成电路的迅速发展，大大促进了洁净工程的发展，集成电路生产工程从64K位到4M位，特征尺寸从2.04m到0.84m。当时根据实践经验，通常空气洁净受控环境的控制尘粒粒径与线宽的关系为1:10，因此洁净工程工作者研制了超空气过滤器，可将粒径gt;0.1pm的微粒去除到规定范围。根据大规模、超大规模集成电路生产的需要，高纯气体、高纯水和高纯***的生产工程也得到很快的发展，从而使服务于集成电路等高工程产品所需的洁净工程都得以高速发展。

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