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4、光学微电子行业净化工程设计方案分析之无尘车间的特点

A、无尘车间的

洁净度:

LCD制屏的简略流程为：清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→LC注入→贴偏振片→制屏终检。

在本设计里是指末端工艺的一些无尘车间，其净化洁净度一般为千级或万级或十万级。背光屏类无尘车间主要是这类产品的冲压车间、组装等无尘车间，其洁净度一般为万级或十万级。

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20世纪60年代的洁净工程在美国、欧洲等发达***顺应各行各业产品生产和科学实验活动的需要得到了广泛应用，可以认为是洁净工程的大发展时期。美国在1961年诞生了国际上早的洁净室标准即美国空程条令203，并把编制联邦***标准的任务交给了原子能的出版机构;1963年底颁布了个部分的联邦标准即FS-209，万级净化间工程，从此联邦标准'209'就成为国际通行的、的洁净室标准; 1966年颁布了修订后的FS-209A，万级净化间工程收费，1957年前苏联颗人造上天后，美国***加速发展宇航事业、精密机械加工和电子工业，这些都要求具有受控空气洁净的生产环境，万级净化间工程费用，从而带动洁净工程及其设备制造的大发展，1961年单向流洁净工程和100级洁净室的建立，更促进了洁净工程的进一步发展。

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20世纪80年代大规模集成电路和超大规模集成电路的迅速发展，大大促进了洁净工程的发展，集成电路生产工程从64K位到4M位，特征尺寸从2.04m到0.84m。当时根据实践经验，通常空气洁净受控环境的控制尘粒粒径与线宽的关系为1:10，因此洁净工程工作者研制了超空气过滤器，可将粒径gt;0.1pm的微粒去除到规定范围。根据大规模、超大规模集成电路生产的需要，高纯气体、高纯水和高纯***的生产工程也得到很快的发展，从而使服务于集成电路等高工程产品所需的洁净工程都得以高速发展。

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