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学微电子净化工程净化原理

气流→初效净化→空调→中效净化→风机送风→管道→高1效净化风口→吹入房间→带走尘埃***等颗粒 → 回风百叶窗→初效净化 重复以上过程，即可达到净化目的。

光学微电子净化工程净化参数

换气次数：100000级≥15次；10000级≥20次；1000≥30次。压差：主车间对相邻房间≥5Pa

平均风速：10级、100级0.3－0.5m/s；温度 冬季gt;16℃；夏季 lt;26℃；波动±2℃。

温度45－65%；GMP车间湿度在50%左右为宜；电子车间湿度略高以免产生静电。

噪声≤65dB（A）；新风补充量是总送风量的10%－30%；照度300LX。

国内外的洁净工程的发展都是随着科学工程的发展、工业产品的日新月异，特别是军事工业、航天、电子和生物等工业的发展而不断发展。现代工业产品生产和现代化科学实验活动要求微型化、精密化、高纯度、高质量和高可靠性。微型化的产品如电子计算机，从当初的要在数间房间内配置数台设备组合发展到现在的笔记本电脑，它所使用的电子元器件从电子管到半导体分离器件到集成电路再到超大规模集成电路，仅集成电路的线宽已从几微米发展到现今的0.1um左右。

洁净室之作用在于控制产品（如硅芯片等）所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为洁净室。按照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。