至成镀膜机多靶离子束溅射镀膜机

至成镀膜机多靶离子束溅射镀膜机是研究超导、类金刚石、光学、磁性等高质量薄膜和材料表面改性的光机一体化的现代化镀膜设备。该机采用四靶、双离子源、离子源为考夫曼源。其原理是利用具有1500ev能量的正离子束或中性粒子轰击靶材料，使材料表面的原子和分子从母材中溅射出来，沉积在基片上成膜。可镀制任意材料，包括金属、合金、超导体、半导体、绝缘体等。该机采用80年代刚刚发展起来的离子束溅射技术，利用双离子源、主枪，对靶材轰击，辅枪在镀前对基片进行清洗，增强基片的活性，提高结合力及纯度。沉积过程中低能轰击膜，增强沉积原子表面扩散和迁移，减少薄膜结晶结的缺陷，并配有对基片处理的各种功能，如加热、冷却、旋转、激光处理、掩膜等。引出栅φ25mm离子能量，1500ev能量束流大于80mA。

多功能真空镀膜机是怎么构成的？

多功能真空镀膜机是磁控溅射、多弧离子、蒸发镀膜的混合性设备，是在多弧离子镀膜机的基础上装备圆柱靶或平面磁控靶，设备具有离子镀的高离化率、高堆积速度的特色，一起也具有磁控溅射低温、安稳的长处，合适镀各种复合膜。

多功能真空镀膜机--磁控、中频、多弧离子镀膜具体介绍：

①蒸腾与磁控溅射的混合设备:多功能，合适量产，适应性强。

②磁控溅射与多弧离子镀的混合运用:多弧能够进步炮击清洗质量，添加薄膜与基材结合力。与磁控溅射一起作业可镀制复合膜（高能离子源清洗活化，成膜速度快）。

③多对中频磁控溅射靶与柱弧离子镀的混合运用:中频靶更安稳（如Al），离化率高、堆积速率快、成膜均匀。中频反应溅射如镀制Si02、TiO2，一起镀多层不一样原料簿膜。

④射频、直流、中频、柱弧的混合运用：射频能够直接镀制绝缘保护膜如SiO2/Ag/SiO2

⑤圆柱弧、中频、多弧的混合运用:柱弧确保高离化率的一起，削减大颗粒堆积的份额，到达有好的结合力又有较好表面光洁度的作用。多功能真空镀膜机适用中高层次商品如表带、表壳、眼镜框、手机壳、高尔夫球具、卫浴洁具、饰品等。

PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤及原理

厂家在采购PVD真空镀膜机时，商家都会培训PVD真空镀膜机的相关知识，如镀膜技术工艺步骤、原理、***维护方法，机器的运行注意事项等等，今天至成小编为大家介绍一下PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤和原理。

PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤，分为以下四个步骤：

（1）清洗工件：接通直流电源，Ar气进行辉光放电为Ar离子，Ar离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出；

（2）镀料的气化：即通入交流电后，使镀料蒸发气化。

（3）镀料离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场后，高速冲向工件；

（4）镀料原子、分子或离子在基体上沉积：工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。

如果是镀离子镀时，蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能，高速轰击工件时，不但沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特别牢。