真空镀膜设备我们可能见到的有很多，如真空镀膜机等等，这里为大家介绍一种概述电磁屏蔽膜专用真空镀膜设备，具体如下：

电磁屏蔽膜专用真空镀膜设备是在手机、笔记本电脑、电话机、DVD等电子产品塑胶外壳表面上镀制电磁屏蔽（EMI）薄膜的专用设备。该设备利用等离子体表面处理技术，并采用真空蒸发和磁控溅射镀膜工艺相结合，以真空蒸发镀Ag、Cu，以磁控溅射镀Ni/Cr不锈钢，可实现不同电阻要求的EMI镀膜。

电磁屏蔽（EMI）膜专用真空镀膜设备特点及基本参数：

1.有卧式、立式结构，可实现单面同时镀膜；

2.生产效率,快速度达1分钟/节拍；

3.模组化设，维护方便；

4.镀膜工艺成熟，成品率高；

5.直流磁控溅射阴极可随客户要求选择；

6.真空系统由机械泵、罗茨泵、扩散泵组成；

7.大尺寸；2200mm*1200mm(长*宽)；

8.小尺寸；500mm*400mm(长*宽)。

真空镀膜设备的化学成分的分析从蒸发源射出的蒸汽流脱离蒸镀原料表面的时候温度很高，能量也比较高，在上升通过蒸发区到达基材表面的过程中，由于碰撞、运动中的能量交换导致动能下降，到达基材表面的粒子很快与基材交换能量，迅速沉积在其表面。在镀膜工艺中，离子轰击改善基材的表面，在蒸发区建立等离子气体以提高气化微粒功能等辅助手段，较好地解决了镀膜与基材结合牢固度的问题。其实在众多的镀膜工艺里，氧化物镀膜工艺和程序是有非常大的难度的，因为它面临着很多因素影响，环境和材料等等，但是氧化物的镀膜工艺却是受到广大的企业生产的亲睐。所以这种镀膜工艺和设备的发展趋势会越来越好！

性能高的节能玻璃需要通过真空磁控溅射工艺在玻璃表面依次镀上厚度为纳米级的10多层金属和非金属薄膜，使玻璃对光谱具有选择性透过功能，能透过大部分可见光，不影响采光，又能阻挡红外、远红外、紫外光，阻断热辐射，生产技术极为复杂。大面积真空镀膜技术和以此为基础的镀膜设备制造业长期被国外公司垄断，单条生产线的技术引进和设备进口费用高达1.5亿元。采用这一工艺生产的产品不仅克服了目前低辐射镀膜玻璃普遍存在的膜层易脱落、易氧化、不能热加工等不足，而且具有可钢化，镀层暴露在大气中3个月以上不氧化、可异地加工等优异性能。