真空PVD镀膜机涂层在中有哪些应用?

PVD涂层可提供更好的边缘保持力，因此涂层***器械仍保持清晰。对于其他设备，它们可以减少配套不锈钢部件之间的磨损，并有助于防止氧化和腐蚀。通常是四种PVD涂层。的是氮化钛（TiN），其厚度范围为0.0001至0.0002英寸，维氏硬度范围为2,400至2,600Hv，以及金色。第二种常见的涂层是铝钛氮化物（AlTiN），通常称为黑色氮化物或黑色钛涂层。它的厚度范围为0.0001至0.0002英寸，硬度范围为4,000至4,200Hv，炭黑色表面。另外两种涂料是氮化铬（CrN）和Alpha。CrN的厚度范围为0.0001至0.0005英寸，硬度范围为2,200至2,400Hv，银色表面处理。Alpha是一种多层涂层，其顶层具有氮化锆（ZrN）并产生银-金色。它的厚度范围为0.0001至0.0002英寸，硬度，范围为4,400至4,600Hv。由于其更高的硬度，润滑性和耐磨性，这种涂层可以比TiN长两到四倍。

至成真空技术工程有限公司是一家***研究制造生产真空镀膜设备及其它真空相关设备的***高新科技企业。公司本着“专注研究镀膜工艺，提供的产品及服务”的理念，赢得国内外客户的满意及信任，并成功打开国外市场。我们将会秉承客户的认可，将镀膜机研发事业推向新的高峰。

本公司制造的真空镀膜设备系列：电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、多弧离子真空镀膜设备、多功能真空镀膜专用设备以及真空焊接专用设备等。各类真空镀膜设备广泛用于家电电器、钟表、玩具、车灯灯罩、手机、工具、陶瓷、瓷砖、塑料、玻璃、五金、光学、电子等高科技产业方面，已成功的为客户开发出满足各种不同要求的镀膜工艺方案。

中频磁控溅射镀膜设备有哪些特点

中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜。中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜的特点是克服了阳极消失现象；减弱或消除靶的异常弧光放电。因此，提高了溅射过程的工艺稳定性，同时，提高了介质膜的沉积速率数倍。

新研发平面靶，圆柱靶，孪生靶，对靶等多种形式的中频溅射靶结构和布局。该类设备广泛应用于表壳、表带、手机壳、高尔夫球具、五金、餐具等镀TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各种装饰镀层。