镀膜设备的镀膜方式及常会遇到的问题

镀膜设备就是在高真空状态下通过高温将金属铝熔化蒸发，使铝的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜表面上，从而使塑料薄膜表面具有金属光泽的设备。真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。

镀膜设备的镀膜方式：离子镀，蒸发镀，溅射镀

(1)镀膜设备的特点：成膜速度快0.1-50um/min，设备比较简单，操作容易;制得薄膜纯度高;薄膜生长机理较简单。

(2)缺点：薄膜附着力较小，结晶不够完善，工艺重复性不够好。

镀膜设备镀出的产品掉膜是怎么回事?

一。产品表面洁净度不够，离子源清洗Ar气放大时间长点。

二。清洗是否有加了清洗剂，或者更换了清洗剂，建议用纯水先试一下。

三。工艺参数是否有变动在膜厚和电流上可以做点调整。

如何减少真空镀膜设备中的灰尘？

使用真空镀膜设备进行镀膜时，镀膜表面的一层灰尘会影响真空镀膜的整体效果，那么该如何减少灰尘呢？

1、使用的源材料要符合必要的纯度要求；

2、样品取出后放置环境要注意清洁的问题；

3、镀膜一段时间后，真空室内壁必须要清洁处理；

4、清洗衬底材料，必须要做到严格合乎工艺要求；

5、工作人员有专门的服装，操作要戴手套、脚套等；

6、适当的增加环境的湿度，有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物；

7、技术上明确允许的颗粒尺寸和单位面积颗粒物的数量的上限大致是多少；

8、室内空气流动性低、地面干净，如果是水泥地，需要覆盖处理。墙壁、屋顶不能使用一般的灰质涂料粉刷。

真空镀膜机的真空室设计方法

真空镀膜技术是在真空条件下采用物理或者化学方法，使物体表面获取所需膜体，真空镀膜技术根据其采用方法的不同科分成蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积以及分子束外延等，这次分析的镀膜设备采用的是磁控溅射镀膜。

真空室是真空设备的一个主要组成部位，真空镀膜设备真空室设计主要考虑的就是密封性和可靠性，结构必须要合理，真空设备的材料生产都是在真空室内进行的，材料对真空度的影响要小，设计不能马虎，要注意一些问题。

使用磁控溅射的真空镀膜机一般采用的是圆筒主体结构，结构上要保证快速抽空，因气袋会缓慢的放气，因此要避免出现隔离孔穴，真空系统上端会加装磁控溅射枪，为了使真空室和元件有足够的强度，保证在外部和内部的作用力下不产生形状的变化，厚度需要足够。

焊接是真空室制造中的一道关键工序，保证焊接之后的真空室不会产生漏气现象，须合理设计焊接结构，提高焊接质量，处在超高真空的内壁粗糙度要抛光使室外室内表面很光洁，须特别注意的是需做好防止生锈的措施。