真空PVD镀膜涂层工艺有那些步骤呢?

今天至成真空小编为大家详细介绍一下真空PVD镀膜涂层工艺操作步骤，它的先后顺序是怎样的，有那些细节和原理是必须要了解的。

首先在处理工艺前，需要褪膜、喷砂、抛光、钝化、清洗、装夹。镀膜工艺，抽真空、加热烘烤、漏率测试、轰击清洗、镀膜、冷却出炉。后处理工艺：首先清洗环节，确保真空镀膜机镀膜前产品表面的清洁，越新鲜的表面，越能保证镀膜质量；然后再抽真空将真空室内的残余气体抽走。接下来加热烘烤，炉体和工件同时加热，加速残余气体的释放。压升率测试，测试炉体的漏气率和放气率。轰击清洗，去除工件表面的杂志，露出新鲜表面。镀膜，沉积膜层。冷却，避免工件氧化变色。为什么要进行冷却，镀膜工艺完成后，真空室内温度高达500℃，如果不冷却就放气，没有被镀上膜的高温工件表面会因为与空气反应氧化变成蓝色。

多弧离子真空镀膜机发展历程及特点

20世纪70年代以来，随着工业技术的不断发展，对材料的综合性能要求不断提高，单一材料性能已经不能满足某些特征环境下工作机械的性能要求。离子真空镀膜机镀膜技术通过物理作用，使基体表面沉积出薄膜，在美观的同时又有效提高镀件的物理化学性能，从而提高产品的使用寿命。离子镀技术是当今使用面广、***的表面处理技术之一。据统计，国内外已有近一半以上表面处理使用多弧离子镀技术，特别适用于对耐磨性、耐腐蚀性有特殊要求的场合。80年代后期，国内外相继开发了离化效率更高的电弧放电真空离子镀、多弧真空离子镀等，使离子镀技术进入了一个新阶段.

近年来，离子真空镀膜机的自动化程度得到了较快发展，国外的设备采用智能一体化控制系统，可精准计算和控制镀膜过程中的基体温度、气体流量和靶电流等关键性参数。国内真空离子镀膜机的自动化程度也有了一定的发展，但在镀膜产品稳定性和精准性方面尚需提升，设备依赖进口。同时多弧离子镀膜机低端产品市场存在供大于求的情况，价格竞争较为激烈。

真空镀膜设备_磁控溅射镀膜设备技术应用

蒸发和磁控溅射两用立式装饰镀膜机，主要适用于塑料、陶瓷、玻璃金属材料表面镀制金属化装饰膜。由于镀膜室为立式容器，所以它具有卧式镀膜机的一切优点，又利于自重较大的、易碎的镀件装卡，更可方便地实现自动生产线，是替代传统湿法水电镀的更为理想的新一代真空镀膜设备。本机镀部分产品可不做底油。

真空镀膜设备机主要特点配用改进型高真空排气系统，抽速快、、节电、降噪和延长泵使用寿命;实现蒸发、磁控溅射、自动控制，操作简单，工作可靠;蒸发镀应用新型电极引入装置，接触电阻小且可靠;磁控溅射应用镀膜材料广泛，各种非导磁的金属、合金均可作镀料;结构紧凑、占地面积小;磁控、蒸发共用两台立式工件车，操作方便。

(或双门蒸发、磁控两用机)至成真空科技业务范围真空镀膜成套设备与技术，真空工程用各种泵、阀、真空计、油、脂、密封件，真空镀膜材料、涂料、金属及合金制品。

真空镀膜设备故障诊断与排除、老产品改造。新型塑料、金属、玻璃等制品表面处理工艺及技术研究，咨询服务。新技术、新设备、新工艺至成真空科技新开发的磁控、蒸发多用镀膜机，配用改进型高真空抽气系统及全自动控制系统，抽速快、、操作简单、工作可靠;具有可镀膜系广、膜层均匀、附着力好、基板温度底等特点;是镀制金属、合金及化合物膜的理想设备;适合镀制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已广泛应用在光学、电子、通讯、航空等领域。