PVD超硬质涂层（工模具）真空镀膜机平板智能显示器的真空镀膜技术

随着科技的发展，计算机、电视机、手机、办公室自动化设备等，对平板显示器件的需求急剧增长，极大的促进了各类平板显示器件的发展。由于平板显示器的兴起，催生起更多真空镀膜技术的发展，今天我们就来谈谈真空镀膜设备在平板显示中的发展和应用。

市面上有很多生产平板显示器的各类型厂商，都会用到真空镀膜技术，其实生产的ITO膜镀膜生产线设备是在浮法玻璃上采用真空磁控溅射技术，孪生阴极，中频溅射技术，并配以的控制系统，镀制SO2/ITO膜层，生产过程全部自动，连续进行。

箱式真空镀膜机

采用箱式结构，真空系统后置，便于操作和维修；整机表面平整，方便清洁，特别适合放置在净化间内做穿墙式安装。

设备真空系统抽速大，具有抽气时间短，真空度高，生产周期短等优点。

采用管状加热器上烘烤，烘烤温度均匀，寿命长，可达到烘烤温度350℃，烘烤均匀性270℃±10℃。

工件转动采用上部中心驱动，轴承带水冷，磁流体密封，转动平稳可靠。

采用石英晶体膜厚控制仪，可实现镀膜过程的自动控制。

采用***的镀膜控制系统，人机操作界面美观实用，系统稳定可靠，可实现系统的手动、半自动和全自动操作。

适用范围:用于生产IR-CUT滤光片、分色滤光片、高反射膜、AR膜、长波通、短波通和多种电学薄膜

真空镀膜机附着力说明了什么

附着力反映了Al膜与基片之间的相互作用力，也是保证器件经久耐用的重要因素。真空镀膜设备溅射原子能量比蒸发原子能量高1-2个数量级。真空镀膜机高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多，产生较高的热能，部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层，而且，在真空镀膜设备成膜过程中基片始终在等离子区中被清洗，清除了附着力不强的溅射原子，净化且基片表面，增强了溅射原子与基片的附着力，因而溅射Al膜与基片的附着力较高。

如何减少真空镀膜机中的灰尘

如何减少真空镀膜机中的灰尘 1、使用的源材料要符合必要的纯度要求； 2、样品取出后放置的环境要注意清洁问题； 3、镀膜一段时间后，真空室内壁必须要清洁处理； 4、清洗衬底材料，必须要做到严格合乎工艺要求； 5、工作人员要有专门的工作服装，操作要戴手套、脚套等； 6、适当的增加环境的湿度，有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物； 7、技术上明确允许的大颗粒尺寸和单位面积颗粒物的数量的上限大致是多少； 8、室内空气流动性低、地面干净，如果是的水泥地，需要覆盖处理，墙壁、屋顶不能使用一般的灰质涂料粉刷。