真空电镀设备膜厚的不均匀问题

无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响化。

在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供高性能的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化化等方面。

现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。

镀膜过程中产生喷点主要有以下几种原因:

1、镀膜材料纯度不高，含杂质较多,预熔过程中无法将这些杂质去除,蒸镀过程中杂质溅上工件表面形成喷点。

2、材料较为潮湿,预熔时电子枪光斑不能将表面的材料全部熔化,在蒸镀过程中也容易产生喷点(这种情况在用国产电子枪镀制MgF2及一些直接升华的材料时较易发生)。

3、镀膜前对材料进行预熔时不够充分,蒸镀过程中材料里的细小颗粒溅上工件表面形成喷点。

4、镀膜过程中,电子枪束流过大引起的材料飞溅产生的喷点。

卧式大型不锈钢镀膜机

该设备主要广泛应用于建筑五金装饰，家具、灯具、宾馆用具、汽车、航空等产品，设备性能各项指标均达到水平，设备出口到欧美发达国际市场。卧式大型不锈钢镀膜机专为不锈钢饰板离子镀装饰膜层设计，离子镀膜层有真

实的金属质感，这是化学镀不锈钢彩板不能比拟的。该系列设备镀室直径1800~2300mm高3600~4400mm，可一次镀1220x4000mm板3张；配三套大抽力真空机组，抽速快，工作周期短；采用圆形电弧靶34~56个，靶位合理布局，配脉冲偏压系统，膜结合力好，彩色均匀，触摸屏 PLC，可以实现电脑全自动控制，自动/手动随时切换，运行性能可靠稳定。可镀金色、银色、枪色、黑色、玫瑰金色、咖啡色、七彩、蓝色等装饰膜。

真空镀膜机工作原理真空镀膜机的结构与工作原理介绍之真空罐

真空镀膜机首要指一类需求在较高真空度下进行的镀膜，详细包含许多品种，包含真空离子蒸腾，磁控溅射，MBE分子束外延，○○PLD激光溅射堆积等许多种。首要思路是分红蒸腾和溅射两种。

需求镀膜的被成为基片，镀的资料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。

蒸腾镀膜通常是加热靶材使外表组分以原子团或离子办法被蒸腾出来，并且沉降在基片外表，通过成膜进程（散点－岛状构造-迷走构造-层状成长）构成薄膜。关于溅射类镀膜，能够简略理解为运用电子或高能激光炮击靶材，并使外表组分以原子团或离子办法被溅射出来，并且终究堆积在基片外表，阅历成膜进程，终究构成薄膜。