真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。

真空镀膜技术一般分为两大类，即物***相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。

物***相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物***相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物***相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时，物***相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物***相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发、高可靠性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。

化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。

真空镀膜与光学镀膜的区别

1、真空镀膜是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术。而光学镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜，或镀一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。

2、真空镀膜是真空应用领域的，而光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。

热成型模真空镀膜机

高强度材料热冲压热成型模真空镀膜机高强度合金钢的热冲压与热成形是金属成形领域中一种发展快的趋势。在这些领域中所使用工具的磨损主要为磨粒磨损和粘着磨损，并且需要经历要求严苛的热环境条件。HC物***相沉积涂层展现了其高韧性，耐磨性以及抗擦伤性，而这些性能恰恰能够明显地提高工具的使用效率。

HC35,HC22与HC30结合渗氮处理的涂层常用于热冲压应用过程中。

压铸，金属***成型压铸与金属***成型过程中所使用的模腔，模仁与镶件必须经受严峻的高温，腐蚀以及磨损条件。HC物***相沉积涂层与HC化学气相沉积涂层具有高韧性，热稳定性，耐磨性以及抗腐蚀性，而这些性能恰恰能够提高工具的使用效率与产品的质量。