影响镀膜机磁控靶点火电压的因素有哪些

靶材对点火电压的影响

(1)阴极靶材的不同材质，因溅射的能量阀值的不同，一般溅射“逸出功”较小的阴极靶材，其点火电压和工作的电压要低一些，反之则会高一些。(2)铁磁性靶材(铁、钴、镍、氮化铁等)和铁素体靶材，会偏转和减少阴极溅射靶面磁场对磁控靶造成影响。靶面磁场的降低，使磁控靶需要很高的电压才能点火起辉。(3)点火电压与磁控靶靶材溅射面积和真空腔体的机械尺寸大小有关。靶材溅射面积大，或是真空腔体的机械尺寸大，相应充入工作气体的数量值较多，在同一阴-阳极电压下，工作气体例如气电离出导电正离子和电子亦增多，导致点火电压下降(在镀膜时还会造成磁控靶溅射电压一定程度上的降低)。

磁控溅射镀膜靶电源的空载电压

(1)靶电源输出的空载电压主要供磁控靶“点火起辉”用，其峰值电压大体可分为三挡，即：800V-1KV-1.2(或1.3)KV左右。(2)大约在5KW以下的靶电源输出空载电压的峰-峰值Vp-p一般在1~1.3KV左右;5KW以上的靶电源其输出的空载电压的峰-峰值Vp-p大约在800~1KV;且电源功率越大,其输出的空载电压越接近偏小值。(3)铁磁性靶材(铁、钴、镍、氮化铁)以及其它铁素体靶材，在选用靶电源输出的空载电压时，须选择靶电源输出空载电压峰-峰值Vp-p范围的偏大数值。

真空镀膜机组成结构,你是否懂?

大家都知道真空镀膜机使用很广泛，能够镀出各式各样的靓丽的膜层，那么哪些各式各样膜层机器是在怎么镀出来呢，它的流程是怎样的，包括机器的结构大概是怎么样，这些膜是怎么上去了。我想可能大多数人还是不知道其中的原因。今天至成小编就给大家大概的讲解一下镀膜机的整个结构情况，帮助大家对镀膜机有一个新的认识。

真空主体是真空腔，根据加工产品要求的各异，真空腔的大小也不一样，目前应用多的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔体由不锈钢材料制作，要求不生锈、坚实等，真空腔各部分有连接阀，用来连接各抽气泵浦。它的系统是辅助抽气系统，此排气系统采用“扩散泵 机械泵＋罗茨泵＋低温冷阱＋polycold”组成机械泵先将真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空状态，为扩散泵后继抽真空提供前提，之后当扩散泵抽真空腔的时候，机械泵又配合油扩散泵组成串联，以这样的方式完成抽气动作。机械泵：也叫前级泵，机械泵是应用广泛的一种低真空泵，它是用油来保持密封效果并依靠机械的方法不断的改变泵内吸气空腔的体积，使被抽容器内气体的体积不断膨胀从而获得真空。它是从大气开始工作的，它的主要参数有极限真空，抽气速率，此为设计与选用机械泵的重要依据。单级泵可以将容器从大气抽到1.0*10-1PA的极限真空，双级机械泵可以将容器从大气抽到6.7*10-2帕，甚至更高。

镀膜设备类型：

—空气：(1)进口和出口区配备动态锁定辊系统，确保带材不间断运动(2)带材缓冲器、连接和分离装置以及放置于镀膜机前、后端大气中的放卷机和收卷机，以保证连续生产(3)生产周期仅受限于靶材/真空腔体内蒸发物储存量

—分批式：(1)真空工艺区入口和出口处连接的卷轴装载锁定腔体，使用带材阀隔开(2)可在不中断工艺真空的前提下装载和卸载卷轴(3)生产周期为1卷轴的时间，然后停止，进行卷轴更换；带材废料长度约为工艺部分的两倍(4)电子束工艺配备额外的档板，用以补偿卷轴更换

镀膜模式：单面镀膜：(1)所有镀膜工具均位于带材的一侧(2)使用电子束(EB)工艺时，（一般情况下）带材的底侧将被镀膜双面镀膜：(1)镀膜工具均位于带材的一侧，卷材改变走带方向(2)需要二次镀膜与传动装置配备

非接触式镀膜选项针对敏感的光学镀膜，提供非接触式机器概念。