真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。

真空镀膜技术一般分为两大类，即物***相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。

物***相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物***相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物***相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时，物***相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为***终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物***相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发高性能、高可靠性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。

化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。

真空镀膜技术优点

清洗过程简化：现有真空镀膜机PVD涂层镀膜工艺，多数均要求事先对工件进行严格清洗，既复杂又费事。然而，离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用，并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清洗效果良好，能使镀层直接贴近基体，有效地增强了附着力，简化了大量的镀前清洗工作。

可镀材料广泛：离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面，使大量的电能在工件表面转换成热能，从而促进了表层***的扩散作用和化学反应。然而，整个工件，特别是工件心部并未受到高温的影响。因此这种镀膜工艺的应用范围较广，受到的局限性则较小。通常，各种金属、合金以及某些合成材料、绝缘材料、热敏材料和高熔点材料等均可镀复。即可在金属工件上镀非金属或金属，也可在非金属上镀金属或非金属，甚至可镀塑料、橡胶、石英、陶瓷等。

热成型模真空镀膜机

高强度材料热冲压热成型模真空镀膜机高强度合金钢的热冲压与热成形是金属成形领域中一种发展快的趋势。在这些领域中所使用工具的磨损主要为磨粒磨损和粘着磨损，并且需要经历要求严苛的热环境条件。HC物***相沉积涂层展现了其高韧性，耐磨性以及抗擦伤性，而这些性能恰恰能够明显地提高工具的使用效率。

HC35,HC22与HC30结合渗氮处理的涂层常用于热冲压应用过程中。

压铸，金属***成型压铸与金属***成型过程中所使用的模腔，模仁与镶件必须经受严峻的高温，腐蚀以及磨损条件。HC物***相沉积涂层与HC化学气相沉积涂层具有高韧性，热稳定性，耐磨性以及抗腐蚀性，而这些性能恰恰能够提高工具的使用效率与产品的质量。