真空镀膜机蒸发系统介绍

真空镀膜机蒸发系统主要指成膜装置部分，镀膜机器的成膜装置很多，有电阻加热、电子枪蒸发、磁控溅射、射频溅射、离子镀等多种方式，鄙人就电阻加热和电子枪蒸发两种方式作介绍，因为此两种方式我应用的比较多。

电阻蒸发根据其结构和工作原理是目前为止应用多，广泛的蒸发方式，也是应用时间长的蒸发方式。它的工作方式是，将钨片做成船状，然后安装在两个电极中间，在钨舟***加上***，再缓缓给电极通电，电流通过钨舟，钨舟通电发热，这些低电压，大电流使高熔点的钨舟产生热量，再热传导给镀膜材料，当钨舟的热量高于镀膜材料熔点的时候，材料就升华或者蒸发了，此方法由于操作方便，结构简单，成本低廉，故被很多设备应用，但是其蒸发出来的薄膜由于致密性不佳，加上很多材料无法采用这种方式蒸镀，所以其有一定局限性。钨舟蒸发镀膜材料的时候，材料的熔点必须小于钨舟的熔点，否则就没有办法进行。

小型实验真空镀膜机

小型实验真空镀膜机适用于任意底色的塑料,陶瓷、树脂工艺品，玻璃等经真空镀膜后皆可镀成金、银、七彩、红、紫、蓝、灰、黑等多种鲜艳颜色，具有提高产品档次，外观更显华贵作用。采用电阻热蒸发方式进行镀膜、功能齐全，适应性强的特点。可以采用电阻蒸发镀，电弧镀或磁控溅射镀。

小型实验真空镀膜机适用于任意底色的塑料,陶瓷、树脂工艺品，玻璃等经真空镀膜后皆可镀成金、银、七彩、红、紫、蓝、灰、黑等多种鲜艳颜色，具有提高产品档次，外观更显华贵作用。实验用真空镀膜机具有外形美观、结构紧凑、占地面积小、易维护的特点。可实现全自动控制或手动控制、操作简单可靠，可自动完成各种镀膜工艺参数。可以采用电阻蒸发镀，电弧镀或磁控溅射镀。不管是哪种镀膜方式均可用于科研、教学、电子元件、及涂料生产等行业的表面表面镀膜，可电镀铝、锡、铜、铬等金属。

真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。

真空镀膜技术一般分为两大类，即物***相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。

物***相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物***相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物***相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时，物***相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为***终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物***相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发高性能、高可靠性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。

化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。