溅镀机设备与工艺（磁控溅镀）

溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射枪（sputtergun）磁控溅射枪分为平面型和圆柱型，其中平面型分为矩型和圆型，靶材料利用率30-40%，圆柱型靶材料利用率gt;50%溅射电源分为：直流（DC）、射频（RF）、脉冲（pulse），直流：800-1000V（Max）导体用，须可灾弧。

射频：13.56MHZ，非导体用。脉冲：泛用，新发展出溅镀时须控制参数有溅射电流，电压或功率，以及溅镀压力（5×10-1—1.0Pa），若各参数皆稳定，膜厚可以镀膜时间估计出来。

靶材的选择与处理十分重要，纯度要佳，质地均匀，没有气泡、缺陷，表面应平整光洁。对于直接冷却靶，须注意其在溅射后靶材变薄，有可能破损特别是非金属靶。一般靶材***薄处不可小于原靶厚之一半或5mm。

磁控溅镀操作方式和一般蒸镀相似，先将真空抽至1×10-2Pa，再通入Ar气（Ar）离子轰击靶材，在5×10-1—1.0Pa的压力下进行溅镀其间须注意电流、电压及压力。开始时溅镀若有打火，可缓慢调升电压，待稳定放电后再关shutter.在这个过程中，离子化的惰性气体（Ar）清洗和暴露该塑胶基材表面上数个毛细微空，并通过该电子与自塑胶基材表面被清洁而产生一自由基，并维持真空状态下施以溅镀形成表面缔结构，使表面缔结构与自由基产生填补和高附着性的化学性和物理性的结合状态，以在表面外稳固地形成薄膜.其中，薄膜是先通过把表面造物大致地填满该塑胶毛细微孔后并作链接而形成．

什么是真空镀膜设备的虚漏及漏孔？

一、虚漏：

虚漏是由于设计或制造加工工艺不当，在真空镀膜设备内形成贮存气源的洞穴，这些气体在真空环境下慢慢释放出来，形同漏气，简称虚漏。

例如，真空镀膜设备内的紧固螺钉没有出气孔，焊缝交叉设计，焊接不完善留有孔穴等都会造成虚漏现象。

二、漏孔：

漏孔是真空镀膜设备内的电真空器件中直径微米数量级的小漏孔，空气中的尘埃或液体都很容易造成漏孔的堵塞，这些就算你当时修理好了也是暂时性的，检漏时好像不漏，但经过抽气之后，又会出现漏气。

所以为了检查，一定要仔细处理好检漏部位，尽量不用手去摸被检测区域，避免尘埃或油脂堵塞漏孔。

真空镀膜机的自控检测装置

真空镀膜机有一个自控检测装置，它可以被动的进行动态防护。在实际运用过程中，为了研究和改进检测装置，考虑到温度影响过滤材料的吸附和吸收性能，会将装置置于空调房间。湿度一方面影响过滤材料吸湿，又会对***吸收性能产生影响，要求严格控制。根据催化剂测定管和比速来确定，流量的大小与动态防护时间成反比，***浓度与动态防护时间也成反比，其波动还会影响到终点确定。

为了满足要求不时的也会做出各种改进，主要方面有用E E29型温湿度传感器代替了干湿球湿度计，通过控制干湿两路流量比，代替了原来的玻璃调湿槽，采用喷射泵技术，在较低的***压力下，实现了长时间***均匀混合，浓度稳定。