中频磁控 多弧离子溅射镀膜机特点

中频磁控 多弧离子溅射镀膜机具有：结构合理、膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作周期短、生产效率高、操作方便、能耗低性能稳定等优点。广泛应用于切削刀具如齿轮滚刀，插刀，铣刀，钻头等表面沉积超硬涂层，也可用于钟表，眼镜架，手机壳、锁具，洁具等各类小五金表面沉积装饰涂层，本设备可实现一机多用沉积多种膜层，膜层细腻，有纯钛（Ti）氮化钛（TiN）氧化钛（TiO）纯锆（Zr）氮化锆（ZrN）碳化钛（TiC）纯铬（Cr）氮化铬（CrN）碳氮化钛（TiCN）氮化铝钛（TiAlN），PVD镀膜膜层目前常见的颜色主要有：深金***，浅金***，咖啡色，古铜色，***，黑色，灰黑色，七彩色,蓝色等。亮度好，饱满度好

至成真空科技可以根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。

离子真空镀膜机镀膜产品表面防腐方法是怎样的呢？

离子真空镀膜机镀膜产品表面大多采用过渡族金属（如Ti、Zr、Cr）或其合金的氮、碳、氧的化合物，还有用非晶碳（类金刚石）膜的。一般来说，这些化合物本身的化学惰性比较高，耐腐蚀性能很好。但是一些装饰镀层产品包括表件、手机壳、高尔夫球头等，却未能通过人工汗腐蚀试验或中性盐雾腐蚀试验。装饰镀层产品的腐蚀不单是镀层本身的耐蚀性问题，还包括装饰镀层 基体的系统腐蚀问题。许多研究工作都表明离子镀装饰镀层自身耐蚀性好，它镀在金属（如不锈钢）基体上，对基体整体均匀抗腐蚀能力有提高，但装饰镀层很薄，不可避免地存在表面缺陷﹐如微裂纹、微孔、孔、柱状晶界、电弧沉积的宏观颗粒等。腐蚀介质可通过这些缺陷所形成的通道，穿过镀层到达基体。

多弧溅射在靶材上施小电压大电流的作用

多弧溅射在靶材上施小电压大电流使材料离子化（带正电颗粒），从而高速击向基片(负电)并沉积，形成致密膜坚硬膜。主要用于耐磨耐蚀膜。中频溅射的原理跟一般的直流溅射是相同的,不同的是直流溅射把筒体当阳极,而中频溅射是成对的,筒体是否参加必须视整体设计而定,与整个系统溅射过程中,阳极阴极的安排有关,参与的比率周期有很多方法,不同的方法可得到不相同的溅射产额,得到不相同的离子密度中频溅射主要技术在于电源的设计与应用,目前较成熟的是正弦波与脉冲方波二种方式输出,各有其优缺点,首先应考虑膜层种类,分析哪种电源输出方式适合哪种膜层,可以用电源特性来得到想要的膜层效果.中频溅射也是磁控溅射的一种,一般真空镀膜机磁控溅射靶的设计,磁场的设计是各家技术的***,国际几个有名的溅射靶制造商,对靶磁场的设计相当***,改变磁场设计能得到不相同的等离子体蒸发量.电子的路径,等离子体的分布.关于阴极弧（也就是离子镀），磁控溅射，以及坩埚蒸发都属于PVD（物***相沉积），坩埚蒸发主要是相变，蒸发靶材只有几个电子伏特的能量。