影响镀膜机磁控靶点火电压的几个因素

气体压力对点火电压的影响：在磁控靶溅射镀膜工艺过程中，由于磁控靶的阴-阳极间距一经确定就是一个大体不变的值，工作气体的压力在一定的(例如0.1Pa~10Pa)范围内变化可能会对点火电压产生较大的影响，总的变化趋势为：随着工作气体的压力的逐步增大，磁控靶点火电压相应降低。不同的磁控靶、不同材质的靶材，靶启辉点火的工作气体压强不尽相同。

电源对点火电压的影响：在同等条件下，选用射频靶电源比选中频或直流靶电源，磁控靶阴极点火电压和工作(溅射)电压都会要降低;选用射频、中频正弦半波或脉冲靶电源，比选低频率同类波形靶电源，阴极点火电压和工作(溅射)电压均会要降低;

五金首饰真空镀膜机

集成了直流磁控溅射，中频溅射和电弧离子蒸发技术，结合线性电离源和脉冲偏压涂层薄的沉积颗粒。各种膜性能的改善，能大衣合金薄膜，复合膜，多层复合膜的金属表面上以及非金属。金首饰真空镀膜机集成了直流磁控溅射，中频溅射和电弧离子蒸发技术，结合线性电离源和脉冲偏压涂层薄的沉积颗粒。各种膜性能的改善，能大衣合金薄膜，复合膜，多层复合膜的金属表面上以及非金属。经过多年专门的研发我们的工程师，通过独特的阴极电弧离子和非平衡磁控系统，我们开发了一套计算机自动控制系统使涂膜附着力密度以及复杂的一致性好，解决手工操作的复杂性，膜的颜色不一致等问题。

切削工具真空镀膜机

切削工具真空镀膜机可以提高工具的切削速度和给刀量，降低加工的时间和成本，更长的使用寿命降低了工具更换的成本，涂层具备***的热稳定性、热硬度和能力、低摩擦系数和低粘附倾向。真空镀室的真空密封和室内运动部件的设计和用材，充分考虑可承受高温，配置多只***园形电弧蒸发源，或配多个矩形平面电弧蒸发源，也可配多只空心阴极枪，同时配置耐冲击的、具有优异灭闪弧性能的偏压电源，保证足够等离子体密度和反应活性，提高膜层致密性和结合力。工件可三维运动，提高膜层均匀性。全自动控制提高工艺稳定性。