***磁控溅射真空镀膜机设备用途：

***磁控溅射真空镀膜机设备用途：主要用于太阳能电池钙钛矿、OLED和PLED、半导体制备等实验研究与应用。磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。***磁控溅射生产但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击Ar气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同，大致可分为平衡态和非平衡磁控阴极。***磁控溅射生产平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等，两极磁力线闭合于靶面，很好地将电子/等离子体约束在靶面附近，增加碰撞几率，提高了离化效率，因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电。

真空镀膜机磁控溅射主要工艺流程：

1、基片清洗，主要是用蒸汽清洗，随后用乙醇浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；

2、抽真空，真空须控制在2×104Pa以上，以保证薄膜的纯度；

3、加热，为了除去基片表面水分，提高膜与基片的结合力，需要对基片进行加热，温度一般选择在150℃~200℃之间；

4、Ar气分压，一般选择在0.01~1Pa范围内，以满足辉光放电的气压条件；

5、预溅射，预溅射是通过离子轰击以除去靶材表面氧化膜，以免影响薄膜质量；

6、溅射，Ar气电离后形成的正离子在正交的磁场和电场的作用下，高速轰击靶材，使溅射出的靶材粒子到达基片表面沉积成膜；

7、退火，薄膜与基片的热膨胀系数有差异，结合力小，退火时薄膜与基片原子相互扩散可以有效提高粘着力。

真空镀膜机磁控溅射镀膜的特点：薄膜纯度高，致密，厚度均匀可控制，工艺重复性比较好，附着力强。

依据溅射源的不同，真空镀膜机磁控溅射有直流和射频之分，两者的主要区别在于气体放电方式不同，真空镀膜机射频磁控溅射利用的是射频放电，陶瓷产品使用的是射频磁控溅射镀。

离子真空镀膜机镀膜工艺及镀膜产品表面防腐方法

不锈钢基材通常会用抛光、拉丝、喷砂、化学蚀刻、激光雕刻、数控机床雕刻等作表面美工处理，有的还用激光焊接，水法电镀镍铬层等。那么离子真空镀膜机启到了很关键的作用，今天至成小编为大家讲解一下离子真空镀膜机镀膜工艺及镀膜产品表面防腐方法。

其实大家都知道，以上介绍几种不锈钢基材表面处理方法，各自有各自的优势和劣势。如：抛光作业会在工件上残留难以去除的硬化了的抛光蜡；尼龙轮拉丝在拉丝沟上会残留透明的不易发现的高分子化合物；砂轮拉丝可能残留磨粒和粘结剂，或因摩擦过热产生氧化皮；喷砂会有陶瓷砂粒﹑玻璃砂粒、氧化铝砂粒残留镶嵌在表面上；化学蚀刻会有腐蚀产物残留在腐蚀坑内，或在其它非腐蚀表面上残留用于防腐蚀的保护物质；激光雕刻处理会产生高温氧化皮和烧蚀基体碎片残留；数控机床雕刻会有高温氧化皮和切削油残留，还会有基材碎片被压入基体上；激光焊接也会导致高温氧化等；水法电镀铬层会生成难以去除的复杂氧化物，这些处理引起的污染不彻底清除会导致离子镀过程打火、镀层假附着、掉膜、颜色不均等不良。

在离子真空镀膜机镀产品中美工处理方式往往不是单一的，而是多种作业组合，这更增加了镀前清洗的困难。采用传统的超声去油除蜡的方法是不能胜任的，必须调整清洗工艺，对不同的污染，可选择机械清除、气相清洗﹑真空加热后再清洗、阴极电解﹑阳极电解、或采用针对性的***清洗剂等等。这些综合措施可取得较好的效果，但对有些污染仍未找到理想的解决办法。新近等离子体抛光方法应用到镀前清洗是值得关注的技术，该技术在某些镀层的褪镀取得良好效果。