镀膜过程中产生喷点主要有以下几种原因:

1、镀膜材料纯度不高，含杂质较多,预熔过程中无法将这些杂质去除,蒸镀过程中杂质溅上工件表面形成喷点。

2、材料较为潮湿,预熔时电子枪光斑不能将表面的材料全部熔化,在蒸镀过程中也容易产生喷点(这种情况在用国产电子枪镀制MgF2及一些直接升华的材料时较易发生)。

3、镀膜前对材料进行预熔时不够充分,蒸镀过程中材料里的细小颗粒溅上工件表面形成喷点。

4、镀膜过程中,电子枪束流过大引起的材料飞溅产生的喷点。

真空镀膜机设备表面处理涂料

渗透型表面处理涂料：基本原理是采用渗透性强的树脂为基，配合极性溶剂、渗透剂使得涂料具备良好的性能，并增强涂层的附着力。

稳定型表面处理涂料：基本原理主要是靠涂料中活性原料与锈层中活泼的成分起反应，使用比较多的活性原料有氧化锌、磷酸锌、铬酸锌、铬酸钡、有机氮碱铬酸盐，铬酸钙、三聚磷酸铝、有的配方还添加，也有认为加入铬酸锶是必要的。

转化型表面处理涂料：转化型表面处理涂料也叫反应型带锈涂料，这类涂料不含成膜物质，也因为这样所以还需要另外加底漆配合，如果含有成膜物质则称之为锈蚀转化底漆。

真空电镀设备膜厚的不均匀问题

无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响化。

在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供高性能的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化化等方面。

现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。