真空镀膜机镀膜技术和湿式镀膜技术

随着科学技术的发展，真空镀膜技术成为了各行各业提高产品质量的手段，真空镀膜所需费用较低经济效益显著让越来越多的企业跃跃欲试，我国生产的真空镀膜机已经达到了相当水平，可以镀制的真空镀膜材料也越来越多，但和国外的设备对比也存在着一点差距，对于真空技术的研发有待提高。

真空镀膜技术的膜材选材广泛，可以控制膜的厚度并镀制不同功能和性能的薄膜，就能使材料具备许多新的化学和物理性能。湿式镀膜技术是过去的一种镀膜方式，即化学镀或者电镀，是应用化学还原的原理沉积在材料上，这种方法会产生废液污染环境，以往很多电镀设备厂因为污染问题纷纷转变镀膜工艺。

真空镀膜技术镀制的薄膜，膜层不易受到污染，在真空环境中可以提高纯度和致密性，不产生废液不污染环境。真空镀膜本身污染，但是实际镀制中会用到有机涂料，所以也会产生污染，然而相比湿式电镀技术，污染小很多，真空镀膜技术生产效率高具有很强的生命力，但也不是说真空镀膜技术就可以完全取代传统的湿式镀膜技术了，在膜层的厚度，耐老化上湿式镀膜法仍然占据优势，真空镀膜镀制的膜层比较薄。

另外，牢固的膜层是受工艺和附着力所影响，不管是真空镀膜技术还是湿式镀膜技术，如果材料表面没有清洁干净都会影响膜层和材料的结合。

真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝性能

真空镀膜机电子束蒸发与磁控溅射镀铝性能分析研究，为了获得性能良好的半导体电极Al膜，我们通过优化工艺参数，制备了一系列性能优越的Al薄膜。通过理论计算和性能测试，分析比较了真空镀膜设备电子束蒸发与磁控溅射两种方法制备Al膜的特点。

严格控制发Al膜的厚度是十分重要的，因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能，从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说，它的工作电压高，电流大，没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积Al膜上电流密度过高，易烧毁。对于一般的半导体器件，Al层偏薄，则膜的连续性较差，呈岛状或网状结构，引起压焊引线困难，造成不易压焊或压焊不牢，从而影响成品率;Al层过厚，引起光刻时图形看不清，造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和“连条”现象。

采用真空镀膜机电子束蒸发，行星机构在沉积薄膜时均匀转动，各个基片在沉积Al膜时的几率均等;行星机构的聚焦点在坩埚蒸发源处，各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等。采用真空镀膜机磁控溅射镀膜方法，由于沉积电流和靶电压可以控制，也即是溅射功率可以调节并控制，因此膜厚的可控性和重复性较好，并且可在较大表面上获得厚度均匀的膜层。

附着力反映了Al膜与基片之间的相互作用力，也是保证器件经久耐用的重要因素。真空镀膜设备溅射原子能量比蒸发原子能量高1-2个数量级。真空镀膜机高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多，产生较高的热能，部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层，而且，在真空镀膜设备成膜过程中基片始终在等离子区中被清洗，清除了附着力不强的溅射原子，净化基片表面，增强了溅射原子与基片的附着力，因而溅射Al膜与基片的附着力较高。

给真空镀膜设备的真空泵换油该怎么做？

在使用真空镀膜设备时，对机器的***工作是十分重要的。他能有效提高机器的寿命，那么对于其中的真空泵的换油工作，究竟该如何呢？我们通常在机器工作3个月时间左右，就要对机器的油进行更换，在比较湿润的地方或者湿润的气候，这种地方的空气对于真空泵中的润滑油的污染是非常严重的，所以我们要根据情况缩短更换润滑油的时间。现在我就为您介绍下关于真空泵换油的操作。

我们首先要做的就是把真空泵从真空电镀系统中拆出来。将底盘电机一端垫高些，打开放油塞放油，转动真空泵、捂住排气口，使腔内污油全部从放油口放出。再从进气口处加入新油100—500ml持续转动5—10转以上，对内部进行清洗。照此操作3—5次，等到污油放清后，再装上放油塞，将真空泵放平从进气口及加油孔分别加入新油，换油即告完毕。真空泵换油的是不适宜长久的开动电机，以避免使排气阀片跳动太过于剧烈和疲劳。严禁使用煤油、酒精等对泵作非拆卸的清洗。