AF真空镀膜机镀膜原理

AF真空镀膜机镀膜原理：减反射膜又称增透膜，它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等学表面的反射光，从而增加这些元件的透光量，减少或消除系统的杂散光。减反射膜是以光的波动性和干涉现象为基础的。二个振幅相同，波长相同的光波叠加，那么光波的振幅增强；如果二个光波原由相同，波程相差，如果这二个光波叠加，那么互相抵消了。减反射膜就是利用了这个原理，在镜片的表面镀上减反射膜(AR-coating），使得膜层前后表面产生的反射光互相干扰，从而抵消了反射光，达到减反射的效果。简单的增透膜是单层膜。一般情况下，采用单层增透膜很难达到理想的增透效果,为了在单波长实现零反射,或在较宽的光谱区达到好的增透效果，往往采用双层、三层甚至更多层数的减反射膜。减反射膜的实际应用非常广泛，***常见的是镜片及太阳能电池-通过制备减反射膜来提高光伏组件的功率瓦值。目前晶体硅光伏电池使用的减反射膜材料是氮化硅，采用等离子增强化学气相淀积技术，使氨气离子化，沉积在硅片的表面，具有较高的折射率，能起到较好的减反射效果。早期的光伏电池采用二氧化硅和二氧化钛膜作为减反射层。

包装卷绕真空镀膜设备

HCPAK系列卷绕镀膜设备是用于铝屏障包装应用的卷对卷金属化解决方案。在利润率较低的行业中，的生产效率，再加上***的产品性能，是应对未来挑战的答案。

通过将传统的铝涂层沉积到宽范围的柔性基板上增强光学、保护和阻隔性能。HCPAK系列覆盖了1100～3850mm的宽幅，以及所有常见的塑料薄膜和纸张基材，针对2500mm以上大宽幅基材以不同的速度实现输出，比传统系统提高25%以上的处理速度。

特点：高正常运行时间，因为一个强大和服务友好的机器概念由于强大的等离子预处理，产品一致性高，阻隔性能提高由于铝蒸发器源的优化配置，在层均匀性方面具有的产品质量简化操作和优化设计，便于操作的设备卷绕系统的创新设计概念使卷绕路径能够灵活地适应基板和应用的个别要求。由于稳健的机器设计，正常运行时间很长

电子束光学镀膜机有哪些特点

在玻璃/PMMA/PC基片上形成高精度光学多层薄膜的精密真空镀膜机。将满足客户需求的多种元件组合在一起，可以形成品质更加优良的薄膜。

基片伞架采用了每分钟可转60转的中心旋转方式(公转)，减少产生振动和颗粒，使基片能够稳定旋转。

采用坩埚上没有极片的电子束加热方式(2台电子枪，10kW型)作为蒸发源，可以稳定地形成多层膜。

采用本公司独有的比率控制法和多点在线监控，可以形成高精度且稳定的光学多层膜。

可利用操作性良好的升降机来取出基片伞架。