真空电镀设备膜厚的不均匀问题

无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响化。

在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供高性能的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化化等方面。

现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。

卧式大型不锈钢镀膜机

该设备主要广泛应用于建筑五金装饰，家具、灯具、宾馆用具、汽车、航空等产品，设备性能各项指标均达到水平，设备出口到欧美发达国际市场。卧式大型不锈钢镀膜机专为不锈钢饰板离子镀装饰膜层设计，离子镀膜层有真

实的金属质感，这是化学镀不锈钢彩板不能比拟的。该系列设备镀室直径1800~2300mm高3600~4400mm，可一次镀1220x4000mm板3张；配三套大抽力真空机组，抽速快，工作周期短；采用圆形电弧靶34~56个，靶位合理布局，配脉冲偏压系统，膜结合力好，彩色均匀，触摸屏 PLC，可以实现电脑全自动控制，自动/手动随时切换，运行性能可靠稳定。可镀金色、银色、枪色、黑色、玫瑰金色、咖啡色、七彩、蓝色等装饰膜。

什么是镀膜机镀膜的均匀性

均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。在光学薄膜的尺度上看，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内。原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在对于多弧离子镀膜机的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。镀膜中化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。对于晶格有序度的均匀性，这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题