离子真空镀膜机镀膜工艺及镀膜产品表面防腐方法

不锈钢基材通常会用抛光、拉丝、喷砂、化学蚀刻、激光雕刻、数控机床雕刻等作表面美工处理，有的还用激光焊接，水法电镀镍铬层等。那么离子真空镀膜机启到了很关键的作用，今天至成小编为大家讲解一下离子真空镀膜机镀膜工艺及镀膜产品表面防腐方法。

其实大家都知道，以上介绍几种不锈钢基材表面处理方法，各自有各自的优势和劣势。如：抛光作业会在工件上残留难以去除的硬化了的抛光蜡；尼龙轮拉丝在拉丝沟上会残留透明的不易发现的高分子化合物；砂轮拉丝可能残留磨粒和粘结剂，或因摩擦过热产生氧化皮；喷砂会有陶瓷砂粒﹑玻璃砂粒、氧化铝砂粒残留镶嵌在表面上；化学蚀刻会有腐蚀产物残留在腐蚀坑内，或在其它非腐蚀表面上残留用于防腐蚀的保护物质；激光雕刻处理会产生高温氧化皮和烧蚀基体碎片残留；数控机床雕刻会有高温氧化皮和切削油残留，还会有基材碎片被压入基体上；激光焊接也会导致高温氧化等；水法电镀铬层会生成难以去除的复杂氧化物，这些处理引起的污染不彻底清除会导致离子镀过程打火、镀层假附着、掉膜、颜色不均等不良。

在离子真空镀膜机镀产品中美工处理方式往往不是单一的，而是多种作业组合，这更增加了镀前清洗的困难。采用传统的超声去油除蜡的方法是不能胜任的，必须调整清洗工艺，对不同的污染，可选择机械清除、气相清洗﹑真空加热后再清洗、阴极电解﹑阳极电解、或采用针对性的***清洗剂等等。这些综合措施可取得较好的效果，但对有些污染仍未找到理想的解决办法。新近等离子体抛光方法应用到镀前清洗是值得关注的技术，该技术在某些镀层的褪镀取得良好效果。

PVD真空镀膜机镀膜工艺原理

PVD即物***相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜和真空溅射镀；通常说的NCVM镀膜，就是指真空蒸发镀膜。PVD真空镀膜机镀膜工艺原理分为以下三种情况：

（1）真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子束轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。

（2）溅射镀膜基本原理：充Ar（Ar）气的真空条件下，使Ar气进行辉光放电，这时Ar（Ar）原子电离成Ar离子（Ar），Ar离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。

（3）离子镀基本原理：在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。

PACVD硬质涂层真空镀膜机系统的特点：

（1）2个等离子激发源（射频，直/直流脉冲）（2）安装在两边的2闭合场非平衡磁控管溅射（3）带有一个前门的六角形真空室，保证一个洁净的环境（4）干式真空系统设计安装在一个单独的空间，处理高吞吐量的碳氢化合物和其他工艺气体（5）基材和导电与非导电涂层及组合***原位清洗的离子激发系统（6）可选择的等离子体激发模式和频率使等离子的密度和能量适应基材增压特性，以小压强进行电离作用（8）单独的PACVD工艺中不强制转动的时候，一种行星式转动也能够使溅射涂层统一沉积（9）特别是在PACVD过程特殊设计的进气系统能够优化涂层的均匀性和清洁度（10）泵的选择编排和上下的蒸汽压力调节，保证了涂层系统的高可靠性（11）iFIX基础的控制系统，易于批次、配方和报警处理（12）所有数据的采集，保证良好的过程控制。工艺过程中定制曲线图做到良好检查方案。在批次运行过程中，操作者也可更改或新建工艺（13）用户可自行设置进入控制系统的权限，以保证系统的质量和安全性