镀膜设备-至成镀膜设备厂家供应-磁控溅射镀膜设备厂家
作者:至成真空科技2019/12/29 5:15:33








给真空镀膜设备的真空泵换油该怎么做?


在使用真空镀膜设备时,对机器的***工作是十分重要的。他能有效提高机器的寿命,那么对于其中的真空泵的换油工作,究竟该如何呢?我们通常在机器工作3个月时间左右,就要对机器的油进行更换,在比较湿润的地方或者湿润的气候,这种地方的空气对于真空泵中的润滑油的污染是非常严重的,所以我们要根据情况缩短更换润滑油的时间。现在我就为您介绍下关于真空泵换油的操作。

我们首先要做的就是把真空泵从真空电镀系统中拆出来。将底盘电机一端垫高些,打开放油塞放油,转动真空泵、捂住排气口,使腔内污油全部从放油口放出。再从进气口处加入新油100—500ml持续转动5—10转以上,对内部进行清洗。照此操作3—5次,等到污油放清后,再装上放油塞,将真空泵放平从进气口及加油孔分别加入新油,换油即告完毕。真空泵换油的是不适宜长久的开动电机,以避免使排气阀片跳动太过于剧烈和疲劳。严禁使用煤油、酒精等对泵作非拆卸的清洗。



真空镀膜机镀膜技术和湿式镀膜技术


随着科学技术的发展,真空镀膜技术成为了各行各业提高产品质量的手段,真空镀膜所需费用较低经济效益显著让越来越多的企业跃跃欲试,我国生产的真空镀膜机已经达到了相当水平,可以镀制的真空镀膜材料也越来越多,但和国外的设备对比也存在着一点差距,对于真空技术的研发有待提高。

真空镀膜技术的膜材选材广泛,可以控制膜的厚度并镀制不同功能和性能的薄膜,就能使材料具备许多新的化学和物理性能。湿式镀膜技术是过去的一种镀膜方式,即化学镀或者电镀,是应用化学还原的原理沉积在材料上,这种方法会产生废液污染环境,以往很多电镀设备厂因为污染问题纷纷转变镀膜工艺。


真空镀膜技术镀制的薄膜,膜层不易受到污染,在真空环境中可以提高纯度和致密性,不产生废液不污染环境。真空镀膜本身污染,但是实际镀制中会用到有机涂料,所以也会产生污染,然而相比湿式电镀技术,污染小很多,真空镀膜技术生产效率高具有很强的生命力,但也不是说真空镀膜技术就可以完全取代传统的湿式镀膜技术了,在膜层的厚度,耐老化上湿式镀膜法仍然占据优势,真空镀膜镀制的膜层比较薄。

另外,牢固的膜层是受工艺和附着力所影响,不管是真空镀膜技术还是湿式镀膜技术,如果材料表面没有清洁干净都会影响膜层和材料的结合。



真空镀膜机溅镀的原理


以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子炮击资料外表,使其溅射出进入气相,可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快,以Cu,Au,Ag等高,Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子能够直流辉光放电(glowdischarge)发生,在10-1—10Pa真空度,在两极间加高压发生放电,正离子会炮击负电之靶材而溅射也靶材,而镀至被镀物上。

正常辉光放电(glowdischarge)的电流密度与阴极物质与形状、气体品种压力等有关。溅镀时应尽也许保持其安稳。任何资料皆可溅射镀膜,即便高熔点资料也简单溅镀,但对非导体靶材须以射频(RF)或脉冲(pulse)溅射;且因导电性较差,溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2,非金属lt;5W/cm2


二极溅镀射:靶材为阴极,被镀工件及工件架为阳极,气体(Ar气Ar)压力约几Pa或更高方可得较高镀率。

磁控溅射:在阴极靶外表构成一正交电磁场,在此区电子密度高,进而进步离子密度,使得溅镀率进步(一个数量级),溅射速度可达0.1—1um/min膜层附着力较蒸镀佳,是现在***有用的镀膜技能之一。


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