南庄LED灯杯注塑镀膜加工信息推荐,佛山锦城镀膜公司
作者:锦城镀膜2020/3/26 10:30:12





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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :弧靶电流:弧靶电流越大,靶材蒸发量越大,靶面温度越高,冷却越差,弧靶产生的液滴大颗粒越多,膜层外观越差,膜层中的缺陷越多。


真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

真空蒸镀是将沉积材料与工件同放在真空室中,然后加热沉积材料使之迅速熔化蒸发,当蒸发原子与冷工件表面接触后便在工件表面上凝结形成具有一定厚度的沉积层日。


镀膜基片

镀膜基片有:浮法原片、切磨玻璃、钢化玻璃、彩釉玻璃、夹层玻璃等。镀膜前基片必须用纯净水清洗,去除基片表面的灰尘、污垢、油腻等杂质,因为表面的杂质将会影响膜层的附着能力,或者影响镀膜玻璃的外观质量。在溅射粒子中,中性的靶原子(或分子)沉积在基片上形成薄膜,二次电子在加速飞向基片时受磁场的洛仑兹力作用以摆线和螺旋线状的复合形式在靶表面作圆周运动。如果基片表面存在胶印、笔印等不能清洗掉的杂质,在清洗之前必须用酒精将杂质擦去。



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